功夫在大豆及土壤中的残留动态研究

为了制订功夫在大豆上安全使用标准,采用田间试验了研究了功夫在大豆茎叶和土壤中的残留动态,应用ＧＬＣ法测定了功夫在青事,成熟大豆和土壤中的残留量。２年的试验结果表明,功夫在大豆茎叶和土壤中消失较快,其半衰期分别为６．６－７．１ｄ和６．７－１１．６ｄ。施药量为１５ｇ／ｈｍ＾２,施药２次,收获时土壤中的残留量为０．００８ｍｇ／ｋｇ;在青豆和成熟大豆中残留量均低于最低检测浓度。