挥发性有机污染物的居里点脱附气相色谱分析 (一)吸附丝采样的可行性研究

本文用活性吸附物与铁磁丝制成吸附丝。用吸附丝作为有机物的采样器,研究了它的吸附性能和居里点脱附性能及重复性。结果表明吸附丝用作挥发性微量有机污染物的采样器是可行的。     

载银TiO2半导体催化剂对印染废水的光降解研究

以新型载银ＴｉＯ２为催化剂，采用高压汞灯为光源对实际印染废水进行了光催化降解的研究。研究结果表明，用新型载银催化剂（简称ＴＳＡ）对印染废水和精炼废水进行深度处理的效果比用ＴｉＯ２为好。在光照１２０分钟条件下，用ＴＳＡ催化剂对印染和精炼废水生化处理出水进行光催化降解，废水的ＣＯＤｃｒ去除率分别达到７５．３％和８３．４％，比同样光降解条件下用单一ＴｉＯ２催化剂时废水的ＣＯＤｃｒ去除率提高２２．９％和２     

水溶液中三氯甲烷的半导体光催化降解的研究

本文以TiO_2为催化剂,采用300W高压汞灯对水溶液中三氯甲烷进行了光催化降解。实验表明,经80分钟光照后,水中的三氯甲烷浓度可以从50ppm降至8ppm。其降解产物为HCl和CO_2。     

无水条件下气相三氯乙烯的光催化降解机理

研究无水条件下气相三氯乙烯的光催化降解反应及其机理,结果表明三氯乙烯的降解产物对ＨＣｌ,ＣＯ２及其Ｃｌ２,,光催化降解速率方程符合Ｌａｎｇｍｕｉｒ－Ｈｉｎｓｈｅｌｗｏｏｄ公式,提出了无水条件下ＴＣＥ的光催化降解机理为空穴直接氧化机理。     

无水条件下气相三氯乙烯的光催化降解研究

以二氧化钛为光催化剂,主波长254nm紫外线杀菌灯为光源,研究了气相三氯乙烯（TCE）在无水条件下的光催化降解反应。结果发现,TCE的光催化降解产物为HCl、CO₂及Cl₂,并得出TCE在无水条件下光催化反应的计量式为C₂HCl₃+2O2hv/TiO2→HCl＋2CO₂＋Cl₂,该计量式与有水条件下光催化反应降解TCE的计量式不同。结果还发现,TCE初始反应速率与光强的0.16次方呈正比,光催化降解速率方程符合Langmuir－Hinshelwood公式_〔1〕。     

载银TiO2半导体催化剂降解染料水溶液的研究

以新型载银ＴｉＯ２为催化剂,采用高压汞灯为光源对染料水溶液进行光催化降解。实验结果表明：采用ＴｉＯ２催化剂使直接耐酸大红（３５ｍｇ／Ｌ）、直接耐晒翠蓝（５０ｍｇ／Ｌ）和直接黑（５０ｍｇ／Ｌ）染料溶液脱至无色的时间分别为３５ｍｉｎ、６０ｍｉｎ及６０ｍｉｎ,而采用载银ＴｉＯ２催化剂,上述染料溶液脱至无色的时间分别为２０ｍｉｎ、３０ｍｉｎ及２０ｍｉｎ。探讨了ｐＨ、光强、催化剂用量及灼烧温度等对催化降解的     

麦饭石对水溶性染料及印染废水吸附的研究

研究了麦饭石对水溶性染料直接耐酸大红4BS的吸附作用,探讨了搅拌时间、麦饭石粒度、投料量及溶液pH值等因素对吸附的影响。结果表明,麦饭石对染料的吸附能较好地符合Langmuir方程。且对染料溶液及实际废水具有良好的脱色率和COD去除率。     

二氧化钛光催化降解次甲基蓝的研究

本文以锐钛型ＴｉＯ２半导体为催化剂，研究了水溶液中次甲基蓝染料的半导体光催化降解及各种影响因素。研究表明，次甲基蓝在ｐＨ为５．８左右时降解较为适宜，其降解初速度与ＴｉＯ２用量的０．６８次方、光强的１．７５次方成正比，温度变化对降解速度影响很小；次甲基蓝初始浓度对降解初速度的影响和吸附等温线相一致。     

半导体光催化降解分散染料溶液的研究

以ＴｉＯ２半导体为光催化剂对溶液中的分散染料的降解进行了研究，在通空气的条件下，光照５０分钟可使５０ｍｇ／Ｌ的染料溶液完全色，ＣＯＤ.ｒ作文经可达７０％以上。研究中探讨了通空气、溶液的ＰＨ值，光距ＴｉＯ２重复使用等因素对光催化降解的影响。