无机陶瓷膜处理冷轧厂乳化液废水工艺

通过对冷轧厂乳化液(含油)废水处理方法的对比,说明处理该废水采用无机陶瓷膜处理装置完全可行;介绍了无机陶瓷膜处理冷轧厂乳化液(含油)废水的工艺过程及处理系统组成。     

陶瓷膜污染过程分析与膜清洗方法优化

采用膜孔径为50 nm的陶瓷膜错流过滤方式,对碱性高浓度有机洗涤废水进行9个周期的膜通量衰减及反向脉冲清洗再生实验研究.通过设计膜污染阻力构成实验,测算膜污染总阻力及其构成比例.实验结果表明,膜固有阻力比例较低,浓差极化污染较弱,Rt和Rc+Rirt污染阻力稳定性较高,膜堵塞形式兼有孔内堵塞和滤饼过滤;选择质量分数0.1％的稀盐酸和0.2％的草酸溶液膜清洗效果均较好,清洗时间为3 min,脉冲时间和频率为3 s/5 s.     

无机陶瓷膜处理油田采出水

针对陶瓷膜在油田采出水处理过程中操作参数的选择及污染机理进行了研究。通过现场实验,分析了不同的操作参数对膜通量的影响,陶瓷膜对含油量及悬浮物的去除效果,膜阻力组成及膜污染清洗方法。实验结果表明,在确定出水水质达到低渗透油田注水水质A1级标准条件下,陶瓷膜过滤最佳操作条件为:跨膜压差0.16 MPa、温度50℃、膜面流速5.0 m/s。同时发现,NaOH和HNO3联合清洗有助于恢复膜通量。     

陶瓷膜生物反应器处理生活污水膜污染机理的研究

采用一个经典模型描述了陶瓷膜生物反应器处理生活污水过程中的通量衰减,通过模型参数分析了膜的污染机理.分析结果表明,孔径为50、200和500 nm的陶瓷膜主要由"部分孔堵塞"机理、"完全孔堵塞"机理和"部分孔堵塞"机理控制.实验表明,孔径为200 nm的陶瓷膜较适用于陶瓷膜生物反应器体系.     

应用陶粒过滤-陶瓷膜组合对止咳糖浆制药废水深度处理的试验研究

止咳精浆制药废水经生物接触氧化一体化废水处理装置处理后,其出水中COD、BOD和氨氮等主要污染物质均不能达标排放.在实验室中采用陶粒过滤-陶瓷膜组合对经一体化处理装置处理后的制药废水进行深度处理,在陶粒柱反应器选用粒径为1～2 mm的陶粒滤料,陶瓷膜反应器选用孔径为2～3/μm陶瓷膜的条件下对水样进行测试.废水经陶粒过滤-陶瓷膜组合处理后,其BOD、COD、SS和氨氮指标均可稳定达标排放.     

电絮凝耦合陶瓷膜滤处理屋面雨水回用于养殖用水

为了应对水产品养殖业迅速发展对水资源需求的危机,开发了电絮凝耦合陶瓷膜滤的短流程工艺处理屋面雨水,旨在回用于养殖用水.首先以模拟雨水作为处理对象优化耦合工艺的运行条件,再基于优化的工艺条件,以实际雨水为处理对象进行净水效能和膜污染特性的考察.结果表明:耦合工艺对于屋面雨水的颗粒物、溶解性有机物(DOM)、总磷、重金属和...     

γ-Al2O3微孔膜制备及其处理电镀废水的研究

膜分离技术在电镀废水处理领域有着良好的应用前景。以异丙醇铝为主要原料,经酸解、除醇、干燥和烧结过程制备陶瓷膜。采用8 nm粒径溶胶多次真空覆涂-焙烧法,在1℃/m in的焙烧条件下制备了非对称氧化铝微孔膜。测试了陶瓷膜的纯水通量、膜截留性能、膜流动电位,结果表明:经过4次的浸涂成膜,纯水通量为3.55×103L/(MPa.h.m2),达到超滤膜的要求;通过截留率计算膜片平均孔径为28 nm;流动电位为-20 mV。将制得的陶瓷膜用于电镀废水处理,COD去除率为85%,在透过液中Cu、Cr、N i浓度分别为0.0663、0.0051和0.0763 mg/L,回用废水可满足电镀前处理的使用要求。     

封孔工艺对2A12航空铝合金微弧氧化膜的影响

封孔工艺对2A12航空铝合金微弧氧化膜层的微孔和裂纹进行了填充,是重要的微弧氧化后处理工艺。本文对比研究了封孔工艺对2A12航空铝合金微弧氧化膜层厚度、硬度、粗糙度和耐蚀性的影响。使用扫描电子显微镜、能谱仪、X射线衍射仪分别对微弧氧化膜层的微观形貌、元素组成、晶相结构进行表征分析,使用涂层测厚仪、维氏显微硬度仪、粗糙度检测仪、酸性盐雾箱分别对封孔工艺处理前后膜层的厚度、硬度、粗糙度、耐蚀性进行测试。对2A12航空铝合金微弧氧化膜层进行硅烷封孔工艺处理,其厚度与硬度无明显变化、粗糙度降低,耐蚀性能显著提升,硅烷3次封孔后的膜层经过酸性盐雾试验192 h无腐蚀痕迹,为后期铝合金微弧氧化在航空领域的应用提供了参考。     

紫外光芬顿-膜分离耦合体系降解金霉素

以金霉素为降解对象，采用沉淀法制备α-FeOOH光催化剂，进一步将其用共价结合法负载在陶瓷膜上，用SEM、XRD、EDS、UV-Vis和FTIR对α-FeOOH和光催化陶瓷膜进行表征.结果表明催化剂α-FeOOH呈针状或纺锤长片状，长宽分别为500~550nm、25~50nm，经α-FeOOH改性的陶瓷膜孔隙率由14.83%变为8.11%.研究光芬顿陶瓷膜耦合体系对金霉素的降解效率和动力学行为，确定了光芬顿陶瓷膜耦合体系的最优降解条件为金霉素初始浓度50mg/L，H₂O₂投加浓度10mmol/L，UV强度为3796.6μW/cm².进一步利用UV-Vis光谱分析了两种体系对金霉素的降解机理，光催化剂体系下，H₂O₂的浓度基本保持不变，而光芬顿陶瓷膜耦合体系下H₂O₂的浓度先升后降，同时后者在同一时间点对TOC和NH₄⁺-N去除率更高，表明光芬顿陶瓷膜耦合体系氧化能力更强，对金霉素的降解更为彻底.