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1.
Ag/ZnO光催化降解甲基对硫磷研究   总被引:26,自引:0,他引:26  
描述了掺杂体系Ag/ZnO用于甲基对硫磷水溶液光催化降解,有氧存在下,经UV照射对甲基对硫磷光降解是有效的,并讨论了影响光降解中甲基硫磷诸因素,初步探讨了光降解机理和动力学,起始降解物为C2H6P^+S和O2NH4O,且是一级反应,半衰期为1.82min。  相似文献   
2.
本文提出用金属氧化物复合体系ZnO-CuO半导体光催化降解PVA水溶液,有较好的效果。研究了在该体系下各因素对PVA光降解的影响,确定了较好的实验条件,并发现空气也是一个重要因素。  相似文献   
3.
半导体复合体系光催化降解水溶性染料研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
研究了半导体复合体系ZnO—CuO—H_2O_2—air对水溶性染料活性艳红X—3B等六种有机物质的光催化降解处理,得到了较高的脱色效果和COD去除率。讨论了不同染料光解难易的原因以及脱色率和COD去除率的差异。  相似文献   
4.
太阳光下降解久效磷的催化剂研究   总被引:15,自引:0,他引:15  
以TiO_2为基体,用掺杂某些金属或离子的方法,提高TiO_2;在太阳光下的催化活性。从多种掺杂催化剂中,筛选出太阳光下降解人效磷的有效催化剂 Fe~3+/TiO_2,经 3 h阳光照射,久效磷的矿化率达 90%。 Fe~(3+)在待降解液中的最适宜浓度为 2.0×10~(-4)mol/L。  相似文献   
5.
本文研究了半导体复合光催化体系ZnO-CuO对印染助剂十二烷基苯磺酸钠和平平加O及实际印染废水的光降解处理。对于COD为830mg/l,色度为3027.5的印染废水,经光照4小时,脱色率达100%,COD去除率达80%。  相似文献   
6.
半导体复合系光催化降解水溶性染料研究   总被引:15,自引:0,他引:15  
研究了半导体复合体系ZnO-CuO-H2O2-air对水溶性染料活性艳红X-3B等六种有机物质的光催化降解处理,得到了较高的脱色效果和COD去除率。讨论了不同染料光解难易的原因以及脱色率和COD去除率的差异。  相似文献   
7.
半导体复合体系催化降解PVA研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
  相似文献   
8.
锌铜复合氧化物光催化降解甲基对硫磷   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用共沉淀法制了锌铅复合氧化物光催化剂,并通过其光催化降解甲基对硫磷农药。结果发现,锌铜复合氧化物能有效地利用空气中的氧,使甲基对硫磷快速光降解,其中ZnO是一个较好的氧化物半导体。  相似文献   
9.
稀土元素掺杂二氧化钛催化剂光降解久效磷的研究   总被引:41,自引:0,他引:41  
采用浸渍法制备稀土掺杂二氧化钛光催化剂,通过光催化降解农药久效磷的研究,发现掺杂稀土元素对TiO2的光催化性能有明显的影响,特别是Ce^4+、La^3+等能明显提高TiO2的光催活性,并讨论了催化剂的制备,光降解条件诸因素对光降解久效磷的影响。  相似文献   
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