磁控溅射镀膜技术在玻璃产业转型中的作用探讨

目前在全国平板玻璃产业存在严重的产能过剩问题,玻璃加工行业由于受到房地产调控的影响也面临暂时性困难。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有功能,寻找新的增长点,助力传统玻璃行业转型升级。     

太阳能热利用技术发展趋势浅析

能源危机、环境污染呼唤新能源。人类生活、生产都要消耗大量能源,没有充足的能源供应,人类无法生存。迄今为止,人类所使用的一次能源——煤,石油、天然气,大部分都是从地下采挖得来。但上述能源储量有限,根据有关的统计数据,从现在开始,地球中储存的石油和天然气只够30年的开采,煤也只能使用200年。此外,常规能源均为化石燃料,使用中必然排放大量温室气体(如二氧化碳)和有害气体(如造成酸雨的二氧化硫),全球温室效应带来的种种自然灾害,大气的严重污染,人类生存环境和地球生态环境的急剧恶化都为人类敲响了警钟。还世界以蓝天碧水已经成为世界各国共同的意愿。     

Influences of working pressure on properties for TiO2 films deposited by DC pulse magnetron sputtering

TiO2 films were deposited at room temperature by DC pulse magnetron sputtering system.The crystalline structures,morphological features and photocatalytic activity of TiO2 films were systematically investigated by X-ray diffraction (XRD),atomic force microscopy and ultraviolet spectrophotometer,respectively.The results indicated that the working pressure was the key deposition parameters influencing the TiO2 film phase composition at room temperature,which directly affected its photocatalytic activity.With increasing the working pressure,the target self-bias decreases monotonously.Therefore,low temperature TiO2 phase (anatase) could be deposited with high working pressure.The anatase TiO2 films deposited with 1.4 Pa working pressure displayed the highest photocatalytic activity by decomposition of Methyl Orange solution,which the degradation rate reached the maximum (35%) after irradiation by ultraviolet light for 1 h.     

光纤ZnO薄膜的制备及光催化性能研究

实验利用射频磁控溅射镀膜工艺,分别在光纤和石英玻璃上成功制备了ZnO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和荧光分光光度计对薄膜进行了测试分析,并对其光催化降解苯酚的性能进行了对比测试。结果表明,该薄膜具有良好的C轴取向性,光致发光峰分别位于362nm、421nm和486nm附近,且随着薄膜样品晶粒的减小而出现蓝移,光纤上ZnO薄膜的光催化能力是以石英玻璃为基底的ZnO薄膜的193倍,光催化效果显著。     

光纤ZnO薄膜的制备及光催化性能研究

实验利用射频磁控溅射镀膜工艺，分别在光纤和石英玻璃上成功制备了ZnO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和荧光分光光度计对薄膜进行了测试分析，并对其光催化降解苯酚的性能进行了对比测试。结果表明，该薄膜具有良好的C轴取向性，光致发光峰分别位于362nm、421nm和486nm附近，且随着薄膜样品晶粒的减小而出现蓝移，光纤上ZnO薄膜的光催化能力是以石英玻璃为基底的ZnO薄膜的1．93倍，光催化效果显著。     

镁铝共掺杂氧化锌薄膜的制备与光电性能研究

采用磁控溅射在玻璃衬底上制备镁铝共掺杂氧化锌(MAZO)薄膜。通过XRD、AFM、紫外-可见-近红外分光光度计和四探针测试仪综合分析溅射功率对MAZO薄膜结构特性、表面形貌和光电性能的影响。XRD测试表明,所有MAZO薄膜具有六方纤锌矿晶体结构,沿垂直衬底的(002)方向择优取向。AFM测试显示,所有MAZO薄膜的表面粗糙度低于10 nm。分光光度计测量结果表明,所有MAZO薄膜可见光区域平均透射率在90%以上。随着溅射功率从0增加至200 W,MAZO薄膜禁带宽度从3.46 eV增加至3.53 eV,电阻率从0.41×10~(-2)Ωcm增长至2.38×10~(-2)Ωcm,而品质因子从2.68×10~(-3)Ω~(-1)下降至0.87×10~(-3)Ω~(-1)。通过调控溅射功率,能改变MAZO薄膜中的Mg含量,进一步调节其光电性能。     

非晶硅太阳电池背电极解决方案

综述了以AZO靶为靶材制备非晶硅太阳电池背电极的制备技术,系统的研究了在AZ0背电极的制备过程中各工艺参数,如氩气流量、直流磁控溅射功率、传输速度对其光电特性的影响,通过工艺参数的调整,确认将AZO背电极的特性控制在满足产品标准特性要求的膜厚及方块电阻的工艺参数,与后续的激光刻划形成良好匹配,最终使非晶硅太阳电池电性能稳定。     

非晶态TiO2-W薄膜的光催化性能研究

采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了W掺杂的非晶态TiO2薄膜,用XRD、XPS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜进行了微观分析.结果表明,TiO2-W薄膜为非晶态结构.Ti以 4价存在;W以0价和 6价形式存在,并且6价和0价W的原子浓度比为6.4:1;薄膜中Ti和W的原子浓度比为2.6:1.对5 mg·L-1的亚甲基蓝溶液光催化脱色试验表明,随着膜厚的增加,光催化降解率递增,当膜厚达到141 nm时,所制备的TiO2-W薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2 h达到90%;当膜厚大于141 nm时,光催化降解率不再增加.     

N2流量比对AlCrMoSiN涂层组织结构和性能的影响

目的 减少硬质合金刀具在干式切削时产生的切削热,降低切削温度,从而提高刀具使用寿命。向AlCrSiN涂层中掺杂Mo元素,在涂层服役过程中易生成层状MoO_(3)润滑膜,降低刀面与切屑和工件间的摩擦,实现涂层刀具的自润滑功能。方法 利用高功率脉冲磁控溅射和脉冲直流磁控溅射复合技术制备AlCrMoSiN涂层,改变反应气体N_(2)流量,调节涂层的成分和结构。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜分析AlCrMoSiN涂层的物相成分和微观结构,利用纳米压痕仪、划痕仪和摩擦试验机分别测试涂层的力学性能和摩擦学行为。结果 当N_(2)流量比增大,AlCrMoSiN涂层沿(111)晶面择优生长,衍射峰变得尖锐,(111)和(200)晶面衍射峰向小角度偏移。当N_(2)流量比为16%时,涂层的硬度和弹性模量最大,分别为17.56 GPa和292.31 GPa。当N_(2)流量比为18%时,涂层的临界载荷最高,约为70.6 N,摩擦系数最低达0.54,磨损率为1.3×10^(–3)μm^(3)/(N·μm),此时涂层最耐磨。结论 N_(2)流量比对涂层组织结构有重要影响,随着N_(2)流量比增大,涂层的力学性能与摩擦磨损性能逐渐改善。