| 氯氟烃化合物对臭氧层的影响---浅谈制冷剂R22替代R502的价值与技术 |
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| 引用本文： | 胡瑞卿,李晶.氯氟烃化合物对臭氧层的影响---浅谈制冷剂R22替代R502的价值与技术[J].环境技术,2005,23(2):24-26. |
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| 作者姓名： | 胡瑞卿 李晶 |
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| 作者单位： | 沈阳谷轮冷冻机有限公司;沈阳东宇空调净化有限公司 |
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| 摘 要： | 从保护臭氧层，保护环境的角度出发，介绍了氯氟烃化合物对环境的影响。阐述了用制冷剂R22代替R502在低蒸发温度应用时需要解决的问题和如何解决。
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| 关 键 词： | 臭氧层 低温应用 |
| 文章编号： | 1004-7204(2005)02-0024-03 |
| 修稿时间： | 2005年1月6日 |
Influence of CFCs on Ozonosphere |
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| HU Rui-qing,LI Jing.Influence of CFCs on Ozonosphere[J].Environmental Technology,2005,23(2):24-26. |
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| Authors: | HU Rui-qing LI Jing |
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| Institution: | HU Rui-qing |
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| Abstract: | Introduce the CFCs influence on the ozone layer and environmental. How to solve the problem of using R22 replace R502 operating at low evaporating temperature application. |
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| Keywords: | Ozone layer Low temperature application |
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