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| 硅的无烟浸蚀 | |
| 引用本文： | 张树基,江道昌,张德卿,丁武.硅的无烟浸蚀[J].环境科学,1982(3):77-77,53. |
| 作者姓名： | 张树基 江道昌 张德卿 丁武 |
| 作者单位： | 北京电子管厂 (张树基，江道昌，张德卿)，北京电子管厂(丁武) |
| 摘 要： | 由于HF/HNO_3稀释液(用水或醋酸),是硅浸蚀液中唯一能获得抛光表面的浸蚀液.但硝酸的存在,使得浸蚀过程伴有大量氮氧化物,恶化操作,污染环境.因此,寻求污染少的新浸蚀溶液和浸蚀工艺,具有实际意义. |
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