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| CI—MID质谱技术在分析痕量有毒化合物方面的应用 | |
| 作者姓名： | 穆守权 张烈文 |
| 摘 要： | 采用ＣＩ－ＭＩＤ质谱技术对在ＥＩ源中不易出分子离子峰或分子离子峰较弱的有毒化合物进行了定量分析研究，结果表明，该法的关键是对ＣＩ反应气流量以及ＭＩＤ条件的控制。 |
| 关 键 词： | 有毒化合物 CI－MID 质谱 分析 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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