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| 化学气相沉积法制备二硫化钼薄膜及其光催化降解亚甲基蓝性能 | |
| 作者姓名： | 张四维 郭俊宏 |
| 作者单位： | 南京邮电大学 电子与光学工程学院、微电子学院,江苏 南京 210023 |
| 摘 要： | 分别采用新型化学气相沉积(CVD)硫化金属Mo的方法以及传统CVD硫化MoO3的方法制备了MoS2薄膜,对其物相和形貌进行了表征,探究了对亚甲基蓝的光催化降解性能.表征结果显示:蒸镀Mo 5 min制备的MoS2薄膜具有多个晶面生长方向,其形貌多为完整的棒状;蒸镀Mo 1 min制备的MoS2多为棒状碎片;硫化MoO3... |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 蒸镀 二硫化钼 光催化降解 亚甲基蓝 |
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