| 粉末冶金高纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究 |
| |
| 引用本文： | 张青来,贺继弘.粉末冶金高纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究[J].装备环境工程,2003,21(6):83-85. |
| |
| 作者姓名： | 张青来 贺继弘 |
| |
| 作者单位： | 上海交通大学材料科学与工程学院，上海钢铁研究所 上海 200030，上海 200940 |
| |
| 摘 要： | 介绍了不同加工方式对铬靶烧结密度的影响。在机压过程中,采用双向压制,不添任何成型剂和脱氧剂。机压+真空烧结铬环靶材密度为78%～80%;冷等静压+真空烧结铬板靶材密度大于82%;而经轧制后,铬板靶材密度提高到90%～95%;铬合金靶材采用热压方式,其密度大于98%。通过优化烧结时间和烧结温度等工艺参数,铬环靶材的烧结成本大大降低。
|
| 关 键 词： | 铬 铬合金 粉末冶金 溅射 靶材 |
| 文章编号： | 1000-8446(2003)06-0083-03 |
| 修稿时间： | 2003年6月16日 |
Technological Study of Powder Metallurgical High-pure Chrome for Sputtering Target Material |
| |
| ZHANG Qing-lai,HE Ji-hong.Technological Study of Powder Metallurgical High-pure Chrome for Sputtering Target Material[J].Equipment Environmental Engineering,2003,21(6):83-85. |
| |
| Authors: | ZHANG Qing-lai HE Ji-hong |
| |
| Institution: | ZHANG Qing-lai~1,HE Ji-hong~2 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | chrome chrome alloy powder metallurgy sputtering target material |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
