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UV/H_2O_2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水的研究
引用本文:刘新秀,王英华,刘勇弟,孙贤波.UV/H_2O_2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水的研究[J].环境污染与防治,2014,36(12).
作者姓名:刘新秀  王英华  刘勇弟  孙贤波
作者单位:1. 华东理工大学资源与环境工程学院,上海,200237
2. 上海重金属污染控制与资源化工程技术研究中心,上海,200031
基金项目:上海重金属污染防治与资源化工程技术研究中心课题
摘    要:含铜电镀废水中酒石酸等络合剂的存在,使得采用普通氢氧化物或硫化物沉淀法难以满足达标排放的要求。采用UV/H2O2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水,考察了光照时间、初始pH、H2O2投加量等因素对处理过程的影响。结果表明,对于铜-酒石酸络合体系(酒石酸质量浓度为418mg/L,CuSO4·5H2O质量浓度为196mg/L),得出的最佳处理条件为:光照时间70min,H2O2投加量1.07g/L,初始pH 3.0,出水中铜质量浓度可以低于0.3mg/L的排放标准,为后续工业化应用奠定了基础。

关 键 词:UV/HO-NaOH  电镀废水  铜-酒石酸络合体系

Treatment of tartaric acid-copper complex in electroplating wastewater by UV/H2O2-NaOH precipitation
LIU Xinxiu,WANG Yinghua,LIU Yongdi,SUN Xianbo.Treatment of tartaric acid-copper complex in electroplating wastewater by UV/H2O2-NaOH precipitation[J].Environmental Pollution & Control,2014,36(12).
Authors:LIU Xinxiu  WANG Yinghua  LIU Yongdi  SUN Xianbo
Abstract:
Keywords:UV/H2O2-NaOH  electroplating wastewater  tartaric acid-copper complex system
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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