| 溶液中阴离子对UV/H2O2降解4-硝基酚的影响 |
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| 引用本文： | 张文兵,肖贤明,傅家谟,盛国英,崔明超.溶液中阴离子对UV/H2O2降解4-硝基酚的影响[J].中国环境科学,2002,22(4):301-304. |
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| 作者姓名： | 张文兵 肖贤明 傅家谟 盛国英 崔明超 |
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| 作者单位： | 中国科学院广州地球化学研究所,有机地球化学国家重点实验室,广东,广州,510640 |
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| 基金项目： | 广东省百项基金创新工程资助项目(99B06901G); 广东省自然科学基金资助项目(20003046) |
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| 摘 要： | 利用间歇式光反应器,研究了溶液中阴离子HCO3-、Cl-、及NO3-对UV/H2O2氧化4-硝基酚的影响.结果表明,UV/H2O2能有效地除去水溶液中4-硝基酚及TOC.随着HCO3-、Cl-及NO3-浓度的增加,4-硝基酚氧化速率减少.溶液中阴离子对UV/H2O2体系中主要氧化剂OH自由基的清除作用是4-硝基酚降解速率下降的原因.利用一级反应动力学对4-硝基酚的降解进行了拟合,得到了满意的结果.
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| 关 键 词： | UV/H2O2技术 4-硝基酚 阴离子 高级氧化 |
| 文章编号： | 1000-6923(2002)04-0301-04 |
| 修稿时间： | 2001年10月26 |
Effect of anions in aqueous solution on the degradation of 4-nitrophenol by UV/H2O2 process |
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