| 半导体光催化技术净化氮氧化物研究进展 |
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| 引用本文： | 姚 婕,张宇飞,王雅文,陈美娟,黄 宇,曹军骥.半导体光催化技术净化氮氧化物研究进展[J].地球环境学报,2017,8(6):492-505. |
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| 作者姓名： | 姚 婕 张宇飞 王雅文 陈美娟 黄 宇 曹军骥 |
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| 作者单位： | 1.太原理工大学 化学与化工学院，太原 030024
2.中国科学院地球环境研究所 中国科学院气溶胶化学与物理重点实验室，西安 710061
3.西安交通大学 人居环境与建筑工程学院，西安 710049 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（41401567，41573138） |
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| 摘 要： | 氮氧化物(NO_x)是形成臭氧和二次气溶胶的重要前体物之一,开发高效的NO_x控制技术对我国大气污染防治具有重要意义。光催化技术作为一种新型的高级氧化技术,对环境浓度水平的空气污染物具有良好的去除效果,是当前研究的热点。本文总结了近年来光催化材料对污染物NO_x催化降解的研究进展,包括:(1)讨论了NO_x光催化氧化去除机理;(2)详细综述了提高光催化材料性能的三大主要措施:增强催化剂的光吸收效率,提升载流子分离和迁移效率以及构筑表面活性位;(3)阐述了半导体光催化技术在净化空气方面的应用,并指出光催化技术在去除NO_x方面的发展前景。
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| 关 键 词： | NOx NO光催化氧化去除机理 光催化剂 |
Research and development on nitrogen oxides removal by semiconductor photocatalysis |
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| Authors: | YAO Jie ZHANG Yufei WANG Yawen CHEN Meijuan HUANG Yu CAO Junji |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | NOx NO photocatalytic oxidation mechanism photocatalyst |
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