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| 日本处理半导体废气的新工艺 | |
| 引用本文： | 于翔.日本处理半导体废气的新工艺[J].世界环境,1986(3). |
| 作者姓名： | 于翔 |
| 摘 要： | 日本东洋酸素公司开展了一种用特制吸附剂高效处理半导体生产过程中产生的废气的新工艺。新工艺是将渗杂气中未反应的有毒气体通入特制的燃烧器使之氧化,生成的氧化物与过剩空气一起与水充分接触,除去酸性气体后再用过滤器除去固体颗粒。为 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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