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HNO_3在气相及SiO_2表面的紫外光解反应
引用本文:邹家骥,陆军,孙云东,朱承驻.HNO_3在气相及SiO_2表面的紫外光解反应[J].环境化学,2015(4).
作者姓名:邹家骥  陆军  孙云东  朱承驻
作者单位:1. 合肥工业大学资源与环境工程学院,合肥,230009
2. 合肥工业大学分析测试中心,合肥,230009
3. 合肥工业大学资源与环境工程学院,合肥,230009; 合肥工业大学大气环境与污染控制研究所,合肥,230009
基金项目:国家自然科学基金项目(21177034)资助.
摘    要:利用紫外及红外吸收光谱等分析手段对365 nm光照下HNO3在气相与SiO2表面的光解反应进行了研究.考察了HNO3浓度、光照时间、相对湿度等条件对反应的影响.结果表明:随着HNO3浓度及光照时间的增加,光解产生的NO2和NO浓度均呈指数增加;无水汽情况下,400 Pa的HNO3光解45 min后,产生NO2及NO浓度比气相光解产生的分别高约3及1.7倍.HNO3光解产生的HONO的浓度随相对湿度的增加而呈线性增加,在SiO2颗粒物表面光解产生的NO2浓度随着相对湿度的增加而减少,而NO浓度则随之增大.400 Pa的HNO3光照45 min后,SiO2表面光解产生的HONO浓度是气相光解的3倍、SiO2表面暗反应的约30倍.

关 键 词:HNO3  气相  SiO2表面  光解

UV photolysis of HNO3 in the gas phase and on the SiO2 film
ZOU Jiaji,LU Jun,SUN Yundong,ZHU Chengzhu.UV photolysis of HNO3 in the gas phase and on the SiO2 film[J].Environmental Chemistry,2015(4).
Authors:ZOU Jiaji  LU Jun  SUN Yundong  ZHU Chengzhu
Abstract:
Keywords:HNO3  gas phase  SiO2 surface  photolysis
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