导流板在生产性氧化沟中的应用

导流板是曝气转盘的附件。通过测试导流板设置前后对氧化沟流速分布和曝气机充氧能力的影响，分析了导流板在实际氧化沟中的应用效果，测试结果表明：导流板的设置提高了氧的转移效率，使转盘的充氧能力得以增加，改善氧化沟上部、底部流速分布。同时设置上下游导流板比只设置下游导流板效果更加明显。     

减少氧化沟弯道沉泥的模拟与研究

针对氧化沟弯道水流流态复杂的特点,分析了弯道横向环流和水流流速在弯道重新分布对污泥沉积的影响,对设置偏置导流墙前后的水流流速分布情况进行模拟比较,探讨了偏置导流墙对减少污泥沉积的机理。     

导流板对氧化沟流场影响的数值模拟

利用Fluent软件对氧化沟流场进行三维数值模拟,采用滑移壁面模型定义转盘转动,Realizable k-ε模型模拟流场湍流变化,并与实测数据拟合验证,再运用验证后的模型对加装导流板前后的深沟型氧化沟进行模拟,得出导流板安装参数变化对氧化沟的影响。结果表明,加装导流板后氧化沟的流场改善明显,沟内中下部液流流速得到改善,减小了污泥淤积的可能。并得出合理的导流板安装参数:导流板板长为水深的1/5;距转盘中心距离为转盘直径的2倍,浸深为曝气转盘浸深的1/6。     

三槽氧化沟内底推位置与积泥厚度的分析研究

氧化沟工艺由于进水中含有大量的无机颗粒,无机颗粒的沉淀导致沟内积泥较厚。为了不影响正常生产,依据经验数据,依次对1号、2号氧化沟安装底推。对沟内积泥情况及影响因素进行分析比较,得出氧化沟的积泥主要由进水中密度较大的无机颗粒造成,且积泥规律与底推安装位置和运行情况相关。     

氧化沟水平轴曝气机充氧性能测试数据的处理方法研究

随着氧化钩工艺在我国的推广应用，国内开发研制水平轴曝气机的单位日益增多，因此建立较为统一、合理的水平轴曝气机性能指标、测试程序以及数据处理方法显得极为重要。本文就充氧性能测试数据的处理方法进行了详细的研究和讨论，论述了在计算过程中需要注意的几个问题，同时对处理数据的计算机软件系统进行了讨论说明。这些内容对国内开发研制氧化沟水平轴曝气机有较大的实用价值。     

新型波纹板导流墙氧化沟水力特性的数值模拟

提出新型波纹板导流墙氧化沟结构,并基于N-S方程和k-ε紊流模型,采用有限体积法,对新型波纹板导流墙氧化沟的水流流态和水流速度分布进行数值模拟。同时与无延长导流墙和平板导流墙的数值模拟进行比较,研究结果表明:新型波纹板导流墙对降低氧化沟隔墙背后的水流低速区范围和改善污泥沉积有促进作用。     

立体循环一体化氧化沟(IODVC)导流板结构优化研究

针对立体循环一体化氧化沟(IODVC)弯道流场存在的问题,利用计算流体力学(CFD)和Fluent计算方法,对IODVC流场进行了二维单相流模拟,探究导流板结构形式对弯道流速分布的影响.研究结果表明,在同等边界条件下,导流板的结构形式对IODVC内混合液的流态分布影响较大.与单导流板相比,双导流板可将流速大于0.25 m·s-1的区域占比提高9.5%,并改善了弯道出口断面流速分布,有效地减小了下沟道靠近隔板处回流区域;此外,适当延长导流板末端长度,可以进一步强化对IODVC内混合液的导控作用,当延长长度等于导流板半径时,效果最佳,大于0.25 m·s-1的流速区域占比达到44.21%,使IODVC内部流场更加趋于均匀.研究结果对IODVC的进一步优化和工程设计有一定的指导意义.     

导流墙偏置位置对氧化沟性能影响的分析

针对偏置导流墙氧化沟复杂结构的特点,采用计算流体力学数值模型和Fluent计算方法,将导流墙偏置距沿径向从0至1m,间隔0.25m进行偏置距位置变化,对氧化沟流场进行了数值计算模拟。研究结果表明:导流墙的偏置距设置对改善隔墙背后的水流低速区和消除污泥沉积有促进作用,但当导流墙的偏置距增加到一定值时,在隔墙背后径向半宽处会形成第二个水流低速区。在比较不同导流墙偏置距的速度曲线基础上,认为导流墙的偏置距应设置在0.3m～0.4m之间较合适,从而为偏置导流墙的合理设计提供理论依据。     

氧化沟半宽导流墙偏心距对水力特性的影响

针对氧化沟弯道水流流态复杂的特点,基于计算流体力学软件(Fluent)对氧化沟弯道设置半宽导流墙前后沟内的水力特性进行了模拟,考察了弯道半宽导流墙的偏心距对氧化沟水力特性的影响,通过灰色关联分析法对不同工况下的模拟结果进行了对比研究,结果发现导流墙偏心距在0²25 mm即约等于氧化沟半宽的1/8时,沟内的水力特性优于无导流墙的情况;偏心距离为225 mm时,过高和过低流速面积均最小,在0.3225 mm即约等于氧化沟半宽的1/8时,沟内的水力特性优于无导流墙的情况;偏心距离为225 mm时,过高和过低流速面积均最小,在0.3⁰.5 m/s内的速度占总体面积的45%,氧化沟内水力特性最佳;导流墙偏心距过大,对氧化沟内水力特性的改善不能起到促进作用,反而会形成较大的低流速区;氧化沟内设置同心半宽弯道导流墙后,同等条件下叶轮消耗的功率将会增加。     

氧化沟的水力计算

阐述了氧化沟进水流量、循环流量和断面平均流速的关系 ,分析了沟内平均流速所起的作用及调节方法 ;分析了提升水头与水头损失的关系 ,给出了它们的计算方法 ;对弯道导流板的作用进行了剖析 ,提出了导流板偏置可以减少导流板的数量 ,降低弯道摩阻 ,并可以避免弯道隔墙背流处的固体沉淀。     

氧化沟弯道水流特性研究

通过建立一定水深下的氧化沟弯道水流平面二维数学模型,对弯道的流速分布进行模拟研究,对比分析了设置导流墙前后的水流流速变化情况,探讨了氧化沟设置偏置导流墙的机理。     

复合式Carrousel氧化沟处理城市污水研究

在Carrousel氧化沟中悬挂半软性填料而组件的复合式氧化沟处理人工合成的城市污水,通过小试研究,考察了复合式氧化沟在不同的HRT时运行效能和特性,分析了复合式氧化沟工艺在污染物去除方面的优势。试验表明,当HRT从55h减少到10h,COD去除率从99.1%减少到86.6%,BOD5去除率从99.4%下降到92.8%,氨氮去除率从98%减少到83.0%;当复合式氧化沟在HRT=20h的条件下运行,进水COD、BOD5和氨氮分别为125.3~492mg/L,56.26~249.44mg/L,20~32.91mg/L,去除率分别为90.2%~97.0%,94.4%~99.3%,90.1%~98.7%。复合式Carrousel氧化沟耐冲击负荷能力强,各类污染物的去除效率很强。     

氧化沟工艺污水处理厂的调试运行

以安徽某县污水处理厂的改良氧化沟工艺调试为例,采用自然培菌和间歇培养相接合的方式进行调试,结果表明方法可行。在进水COD100mg/L时,MLSS在1500mg/L时,出水COD、NH4-N均可取得较好的处理效果。同时对调试过程中的各环节如人员培训、带负荷试车、污泥培养等进行了详细阐述,并确定了各工艺段的控制参数。     

氧化沟法治理酿造曲酒废水工程实例

设计规模8000M3/d,水温20～30℃.设计参数:PH进水7.8～8.5,出水6～9,CODcr(mg/l)进水800,出水150.BOD5(mg/l)进水400出水60,SS(mg/l)进水300出水150.采用两条单沟式氧化沟,每条长95M,宽15M,有效容积10000M3,停留时间30h,污泥负荷为0.11kgBOD5/kg活性污泥,实际处理后水质达到GB8978-1996一级排放标准.     

氧化沟直段水力特性实验研究

文章主要研究氧化沟直段水力特性,并与典型明渠理论对比。采用声学多普勒测速仪(ADV)测量氧化沟模型内流速场,通过对测量数据的拟合分析,得到氧化沟直段流速沿垂向分布、横向分布及沿程变化规律,对水流的流速分布进行对比分析,提出有关氧化沟流场的理论成果(内区流速分布符合对数分布。外区流速分布开始偏离对数分布而趋于二次抛物线分布,用二次抛物线分布能较好地拟合实际分布规律,对内、外分区界限的变化规律进行拟合分析,得到分区界限距渠底的相对高度的统一表达式),与典型明渠理论进行对比,得出氧化沟流场分布及沿程变化与典型明渠明显不同。氧化沟内垂线流速分布存在明显的分区结构,内区流速分布规律与典型明渠中相似,外区流速分布规律与典型明渠中差别很大。     

氧化沟活性污泥膨胀的原因和控制

荆门石化污水处理场采用氧化沟处理工艺。针对在处理炼油污水过程中发生的污泥膨胀现象，根据运行数据，对活性污泥膨胀的原因进行分析和讨论，并提出建议。     

ORBAL氧化沟在炼油污水处理上的应用

总结了石炼污水处理场采用ORBAL氧化沟做为二级生化处理设施的成功经验，并对ORBAL氧化沟和周边进水，周边出水二沉池的运行机理进行了说明。     

氧化沟改良工艺处理城市污水的效果分析

为研究氧化沟改良工艺对城市污水的处理效果,试验采用有效容积为1.10m3的氧化沟改良模型,以污泥龄SRT、水力停留时间HRT和外沟-中沟-内沟三沟溶解氧DO等运行参数为影响因素,对改良型氧化沟工艺处理城市生活污水运行效果进行正交试验研究。试验的最优工况为泥龄SRT取15d,水力停留时间HRT取20h,外沟-中沟-内沟三沟溶解氧DO取0.5~1mg/L-0~0.3mg/L-2~3mg/L。最优工况下对COD、NH4+-N和TP的去除率分别为84.7%、91.9%和63.4%。试验结果体现了氧化沟改良工艺的优良性能。     

厌氧-Carrousel氧化沟处理亚麻沤制废水的试验研究

亚麻沤制废水是一种高浓度有机废水,经厌氧处理后,出水仍不达标.采用厌氧-Carrousel氧化沟进行后续处理试验,并引进了ACF32微生物制剂进行污泥培养,出水CODCr值在200 mg/L左右,TN值维持在22 mg/L左右,TP值维持在3 mg/L以下,最后讨论了试验中影响处理效果的主要因素.