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991.
The purpose of this article is to examine the methods and equipment for abating waste gases and water produced during the manufacture of semiconductor materials and devices. Three separating methods and equipment are used to control three different groups of electronic wastes. The first group includes arsine and phosphine emitted during the processes of semiconductor materials manufacture. The abatement procedure for this group of pollutants consists of adding iodates, cupric and manganese salts to a multiple shower tower ( MST ) structure. The second group includes pollutants containing arsenic, phosphorus, HF, HCI, NO2, and SO3 emitted during the manufacture of semiconductor materials and devices. The abatement procedure involves mixing oxidants and bases in an oval column with a separator in the middle. The third group consists of the ions of As, P and heavy metals contained in the waste water. The abatement procedure includes adding CaCO3 and ferric salts in a flocculation-sedimentation compact device equipment. Test results showed that all waste gases and water after the abatement orocedures oresented in this article passed the discharge standards set by the State Environmental Protection Administration of China. 相似文献
992.
ControlofarsenicPollutionfromwastegasesduringfabricationofsemiconductorWenRuimei;LiangJunwu;DengLisheng;PengYongqing(Institut... 相似文献
993.
关于防止船舶垃圾对水域的污染 总被引:1,自引:0,他引:1
系统介绍了有关防止船舶垃圾污染的国际公约及其国内法律规定;并对加强船舶垃圾管理工作提出了几点建议。 相似文献
994.
995.
996.
997.
998.
Purification of AS-CMP effluent by combined photosynthetic bacteria and coagulation treatment 总被引:5,自引:0,他引:5
IntroductionThepulpandpaperindustryisamajorcontributortowaterpollutioninChina.In1995,thewastewaterdischargedbypulpandpaperindust... 相似文献
999.
M—铁氧体对印染废水催化脱色试验研究 总被引:6,自引:1,他引:6
本文介绍了用含不同组分的铁氧体(M-铁氧体)作为催化剂,对印染废水进行催化空气氧化脱色的试验研究.实验发现Ni-铁氧体对不溶性还原染料废液有较好的催化脱色能力,脱色率通常可达90%以上.红外光谱分析结果表明,Ni-铁氧体参与的不溶性还原染料废液的催化脱色反应是通过将染液中的助剂保险粉彻底氧化,从而使染料转化为不溶性沉淀物被分离而完成的. 相似文献
1000.