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半导体厂含氟废水的深度处理 总被引:4,自引:1,他引:4
将高浓度含氟废水处理到10mg/LL较容易,但进一步处理到3mg/L以下就比较困难。本文报道了将半导体厂含氟废水用药剂混凝法处理到3mg·L-1以下的方法。一系列实验结果表明,pH是影响除氟的最主要的因素。 相似文献
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