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2,4-D对铜在蒙脱石上吸附与释放的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
研究了在2,4-D的影响下,Cu^2 在蒙脱石上的吸附与脱附行为.结果表明.有2,4-D存在时,Cu^2 在蒙脱石上的吸附低于单纯Cu^2 的吸附,而当蒙脱石先吸附2,4-D后再吸附Cu^2 (连续吸附)时,Cu^2 的吸附比二者同时存在时(同时吸附)的效果好,表明两种吸附质间存在竞争吸附.研究还表明,所有的吸附过程都符合Langmuir和Freundlich吸附等温模型.在有2,4-D同时存在时,Cu^2 的脱附最大,可达30%;而单纯Cu^2 在蒙脱石上的吸附似乎是不可逆的,脱附百分比最小。 相似文献
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荧光猝灭法研究洛克沙胂与腐殖酸的相互作用 总被引:1,自引:0,他引:1
运用荧光光谱和荧光猝灭滴定方法,研究腐殖酸(HA)与洛克沙胂(ROX)之间的相互作用,考察了HA浓度、pH和温度对ROX与HA之间相互作用强度的影响.结果表明,HA中的4个峰(Ex/Em=300 nm/480 nm、370 nm/480 nm、420 nm/500nm、460 nm/520 nm,分别标记为A、B、C、D)与ROX发生了不同程度的猝灭作用,猝灭程度依次为C>B>A>D.随着HA浓度增加,ROX与峰A所代表官能团结合常数的常用对数值lg K有略微上升,且远大于O2双分子动态猝灭常数的lg K值,表明ROX能与HA中羧基和羰基等官能团发生静态猝灭作用;在pH值5.00~9.00范围内,ROX-HA体系中峰A的lg K在3.55~3.98 L·mol-1之间波动,且在pH=6.00时达到最大值,这可能是由于pH改变了ROX形态以及HA分子中酚羟基和羧基的构象所致;在25.0~55.0℃范围内,随着温度上升,lg K值降低,lg K值介于2.65~3.89 L·mol-1之间,这进一步表明ROX与HA中的类FA荧光峰所代表的官能团发生静态猝灭.瞬态荧光光谱和线性模型拟合分析表明:ROX与HA中峰A、峰B、峰D所代表的官能团均发生单一静态猝灭作用,而与峰C所代表的官能团同时发生静态猝灭和碰撞猝灭作用. 相似文献