新型聚合铝硅混凝剂处理洗浴废水的试验研究

针对常规铝盐、铁盐去除洗浴废水中阴离子洗涤剂 (LAS)效果不理想的状况 ,采用高碱化度钙型聚合铝硅混凝剂 (CPASC)进行了试验研究 ,同时与聚合氯化铝 (PAC)作了比较。结果表明 ,该混凝剂对洗浴废水中COD、LAS、SS及浊度都有较高的去除率 ,特别对LAS、COD的去除率分别比PAC高 10 %和 8%以上。当投加量为 6 0mg/L时 ,出水各项指标均达到生活杂用水水质标准 (GJ2 5 .1 89)。     

PDMDAAC系列絮凝剂的脱色性能研究

研究了二甲基二烯丙基氯化铵聚合物（PDMDAAC）系列絮凝剂对活性染料废水和分散染料废水的脱色效果，考察了絮凝剂的特性粘度、阳离子度及结构等因素对脱色效果的影响，探讨了其脱色机理，并试验了与PAC复配的脱色效果。实验结果表明：絮凝剂的特性粘度越高，阳离子度越高，脱色效果越好；絮凝剂结构中引入乙烯基三甲氧基硅烷（VTMS）可使脱色效果胡所提高；PDMDAAC系列絮凝剂处理活性染料废水的机理是通过电中和作用，使染料分子从水中析出，然后通过吸附架桥作用使之聚集、沉降除去；PDMDAAC系列絮凝剂在处理分散染料废水时，吸附架桥为主导作用；PDMDAAC系列絮凝剂与PAC复配可使脱色效果更佳而且可以降低处理成本。     

氧化法制备聚合氯化铁絮凝剂的氧化速率及其形态分布

采用氧化法制备聚合氯化铁絮凝剂，论述了不同亚铁溶液中氧化水解动力学、氧化过程PH值变化以及不同反应过程对聚合氯化铁形态分布的影响；结果表明，氯化亚铁溶液的氧化速率主要受溶液的含酸量和三价铁离子的水解聚合反应的协同效应的影响，当溶液酸量达到最低点时，亚铁氧化速度也将降至最慢；通过形态分布、稳定性及氧化速度的研究确定了制备聚合氯化铁的最佳条件。     

聚合铝的形态稳定性及其动电特性的研究

本文采用改进的Ａｌ－Ｆｅｒｒｏｎ快速测定法研究了混凝过程中铝盐与聚合铝水解形态的转化规律及稳定性，并对混凝反应过程中铝与聚合铝溶解－沉淀形态分布与理论溶解度进行了对比，同时采用流动电流技术直接测定了铝盐与聚合铝絮凝剂的荷电状况，最后对发生在混凝过程中铝与聚合铝最佳凝聚形态进行了讨论。     

新型聚铝硅复合絮凝剂的制备及性能研究

本文初步制备了两种新型聚铝硅复合絮凝剂：聚铝硅（含活化硅酸聚合铝，ＰＡＣＳｉ）和聚硅铝（聚硅酸硫酸铝，ＰＳｉＡＳ），研究对比了ＰＡＣＳｉ，ＰＳｉＡＳ与ＰＡＣ的絮凝性能。考察了硅酸聚合程度，硅、铝含量对其絮凝性能的影响，结果表明，提高硅酸聚合程度或硅、铝含量的增加均有利于增强絮凝性能，且随（Ｓｉ）／（Ａｌ）比值的提高，其絮凝性能也明显增加，在铝含量相同情况下，聚铝硅和聚硅铝的絮凝性能均优于聚合氯化铝     

聚铝铁硅絮凝剂的合成方法及其混凝效能

采用硅酸钠碱化聚合方法制备聚铝铁硅絮凝剂，研究它们的ｐＨ弛豫规律及其稳定性，并通过流动电流测定了其电动特性，最后进行了混凝除浊（富里酸）效果对比研究。初步得到了稳定性及絮凝效果均较好的聚合铝铁硅絮凝剂的工艺合成方法。     

Ferron逐时络合比色法研究TEOS-PAC中Al的形态

以TEOS为原料,将其与AlCl3溶液混合后再缓慢滴加NaOH溶液,合成出具有不同Si/Al比和B值的复合絮凝剂样品TEOS-PAC.用Ferron逐时络合比色法对其Al形态分布及转化特征进行了研究,并与以硅酸钠(Na2SiO3@9H2O)为原料相同条件下制备的样品作了比较,初步得出了si/Al比和B值对TEOS-PAC复合絮凝剂中Al形态的影响规律.     

烧结法赤泥基本特性的研究

主要运用多种分析检测方法和手段,对山东铝业公司的烧结法赤泥的基本特性进行了深入系统的研究,以期揭示赤泥特性与用途之间的相关关系,为烧结法赤泥综合利用提供必要的基础数据和科学依据。     

阳离子聚电解质强化絮凝去除活性染料的研究

选用三种活性染料分别配成模拟染料废水,用阳离子聚电解质(PDADMAC)强化絮凝去除活性染料.结果表明,PDADMAC去除活性染料的机理为聚电解质络合絮凝.PDADMAC的阳离子度高,分子量低,疏水性大,脱色去除效果较好.而且,活性染料的脱色去除率随活性染料色度的深浅而不同,表现为活性黑K-BG＞活性艳红K-2BP＞活性嫩黄K-6G.     

阳离子聚电解质聚二甲基二烯丙基氯化铵的絮凝机理初探

以聚二甲基二烯丙基氯化铵PDADMAC(特性粘度分别为2.7,1.4,0.7)为絮凝剂,对比PAC和PFC,通过残余浊度、Zeta电位、FI絮凝指数的测定,研究了PDADMAC对高岭土悬浊体系(浊度分别为6000,1000,200和10 NTU)的絮凝特性,并对其絮凝作用机理进行了探讨.结果表明,PDADMAC的吸附构型决定其絮凝机理在较低初始悬浊物浓度下(200 NTU)为单个颗粒物表面吸附覆盖及其"吸附电中和"絮凝模型;在高浊条件下(＞1000 NTU)为单颗粒表面(Monomer)部分吸附覆盖及其"吸附架桥"絮凝模型.