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水相中CCl4和CHCl3的紫外光解机理 总被引:2,自引:0,他引:2
利用瞬态吸收光谱技术研究水体污染物CCl4和CHCl3在紫外光照条件下的转化和归宿,表明在248nm激光作用下,CCl4解离为CCl3和Cl自由基;CHCl3在此条件下不解离,但加入少量的苯后即发生明显解离,产生CHCl2和Cl自由基.在有氧条件下,光解产生的CCl3和CHCl2自由基均与O2反应分别生成CCl3O2和CHCl2O2;在无氧条件下,CCl3和CHCl2则发生偶合反应分别生成C2Cl6和C2H2Cl4.本研究还得出了一些微观速率常数. 相似文献
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介质阻挡放电等离子体降解CF4 总被引:1,自引:0,他引:1
采用介质阻挡放电(DBD)等离子体技术降解强温室气体CF4,考察了外加气体氧气(O2)、空气、氩气 (Ar) 对DBD降解CF4的影响. 结果表明:随着放电时间的延长,CF4降解率升高. 3种外加气体条件下,CF4的降解率依次为Ar>空气>O2. 外施电压1 000 V,Ar条件下放电4 min,CF4降解率可达98.2%,而O2条件下CF4降解率只有36.9%. 水汽对CF4降解有一定抑制作用. 红外光谱检测结果表明,降解产物主要为CO2,CO和COF2. 相似文献
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外置式联合等离子体光解技术去除苯乙烯气体 总被引:3,自引:3,他引:0
开发了用一个高压电源同时产生等离子体和KrI* 准分子紫外辐射的外置式联合等离子体光解(Outer Combined Plasma Photolysis, OCPP)技术,并用于降解模拟流动态苯乙烯气体. 结果表明:在Kr和I2充入量分别为26.60 kPa和6 mg, 气体流速为3.26 m3/h, 初始ρ(苯乙烯)为1 265 mg/m3,外施电压为9.0 kV的条件下,苯乙烯的去除率达84.4%;与介质阻挡放电技术相比,苯乙烯的去除率提高了20.6%,能率提高了5.7 g/(kW·h). 同时,研究了OCPP技术降解苯乙烯的影响因素,包括Kr和I2的充入量、石英材质、气体流速、初始ρ(苯乙烯)及反应器结构. 采用红外光谱仪和气质联用仪分析了结焦产物,探讨了OCPP技术降解苯乙烯的机理. 相似文献
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介质阻挡放电降解流动态二甲基二硫废气 总被引:1,自引:0,他引:1
采用介质阻挡放电等离子体技术(Dielectric Barrier Discharge,DBD)处理常压下流动态气体中的有机硫恶臭气体二甲基二硫(Dimethyl Disulfide,DMDS).研究了不同停留时间、进气浓度及外施电压条件下DMDS的转化,推导了DBD处理DMDS的动力学模型,并根据傅立叶红外(FT-IR)产物分析探讨了反应机理.研究结果表明,DMDS降解产物主要为CO2、SO2和H2O.在停留时间0.067 s、外施电压7500 V、进气量8.4m3·h-1的条件下,进气浓度为80 mg·m-3 DMDS的降解率达到64.3%,体积降解比量为2.26×10-2L·s-1·W-1,绝对处理量达到430 mg·h-1. 相似文献
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磷钨酸光催化六氟苯脱氟的研究 总被引:1,自引:1,他引:1
选择六氟苯作为目标化合物,利用266 nm脉冲激光照射磷钨酸与六氟苯的混合溶液证实了光催化转化六氟苯的可行性.结果表明,氟离子生成率与光照时间、pH值、磷钨酸初始投加量和添加物的量有关.氟离子生成率随激光脉冲次数的增加而升高.在溶液pH=1.0的条件下,氟离子生成率最高.2.0×10-4mol/L的六氟苯与5.0×10-6mol/L的磷钨酸的混合溶液在接受脉冲激光后,氟离子生成率可达208.1%.外加的氧化剂O2、KMnO4、K2S2O8可以有效氧化还原态的磷钨酸,实现整个光催化循环.溶液中存在的醇类及芳香族有机化合物不利于磷钨酸光催化转化六氟苯. 相似文献