半导体材料生产排放污染物对活性污泥酶活性的影响

采用控制MLSC为2000mg/L的静态试验,研究GaAs、Ga~(3+)、In~(3+)、As(V)对活性污泥脱氢酶、脲酶、蛋白酶活性的影响.结果表明,抑制10％脱氢酶、脲酶活性的GaAs浓度分别为80.3mg/gMLSS和29.0mg/g MLSS;抑制10％脱氢酶、脲酶、蛋白酶活性时,Ga~(3+)浓度分别为228.5mg/gMLSS、56.0mg/g MLSS、204mg/g MLSS;In~(3+)浓度则分别为25.4mg/g MLSS、89.0mg/g MLSS、132.4mg/g MLSS;As(V)浓度分别为552.6mg/g MLSS、464.6mg/g MLSS、193.7mg/g MLSS.     

纳米TiO2光催化剂负载技术研究

纳米TiO2光催化剂在废水处理、空气净化等环保领域具有诱人的应用前景,将其负载于一定的载体上,并设计出高效的光反应器是其实用化的关键之一。本文对纳米TiO2光催化剂负载所用载体、固定方法及其效果、相关光催化化学反应器作了综合评述。     

半导体光催化氧化

主要介绍半导体光催化氧化降解有机污染物的过程和影响光催化氧化活性的因素，指出了光催化氧化领域的一些新进展。     

国家半导体行业VOC排放标准制订研究

随着近年来我国半导体产业的持续繁荣发展,中国已成为全球半导体制造增长最为迅速的市场。为有效控制监管半导体生产过程中大量使用的各种有机溶剂所产生的废气中可挥发性有机物(VOC)的排放,加强行业污染控制,规范行业环境保护管理工作,对制订半导体行业VOC排放标准进行了研究。概述了半导体行业VOC排放的特点。分析了该行业对VOC排放的治理技术。阐述了美国和中国台湾地区有关半导体行业VOC废气的排放标准。从国内半导体企业VOC治理现状、现有监测技术、VOC排放管理方式等方面探讨了我国半导体行业VOC废气排放标准的制定思路。     

从日本地震对我国安防行业的影响看其半导体竞争力

2011年3月11日,在日本东北部海域爆发了一场其有记录以来的最大规模地震。大地震虽然远离日本的三大经济圈——名古屋、东京和大阪,即使最近的东京距离震中也有400公里左右,但是,它却几乎重创了整个日本产业,从半导体电子产业到汽车、机械、家电以至钢铁产业。而且,大地震还对世界经济产生极大影响,以电子产业为主的全球产业链遭受巨大冲击。     

半导体行业废水的反渗透膜污堵机制与控制策略

半导体行业是我国大力发展的高精尖产业,废水产生量大、再生处理难度高.半导体行业废水再生处理过程中,反渗透(reverse osmosis, RO)是重要的污染物去除单元,但面临的膜污堵问题严重影响了其效率与经济性.本文梳理了半导体行业废水的种类与典型污染物,总结了半导体行业废水导致反渗透膜污堵的主要机制及控制手段,提出了针对半导体行业废水特点的膜污堵控制策略.半导体生产的不同工序会产生多种废水,包括含氟废水、含磷废水、含氨废水、重金属废水、有机废水与酸碱废水等.废水中污染物种类多且可生化性普遍较差.通常,不同种类废水分类经分质收集后,进行相应的预处理,之后部分合流处理并进入RO系统.半导体行业废水中的金属离子或氟离子易在反渗透膜面形成无机结垢,表面活性剂易形成有机污堵.反渗透膜污堵可通过预处理、膜清洗与运行条件调控等手段进行控制,如超滤、EDTA清洗剂与pH调节等,但大部分现有手段对半导体行业废水造成的污堵控制能力有限.建议未来开发针对关键污染物的预处理技术与定制化的膜清洗方案;并结合半导体生产工序,提出针对污染物关键相互作用关系的废水收集与再生处理整体策略.     

多元多相光催化氧化反应器及其对水中2，4—二硝基苯酚有机污染物降解的研究

利用多元多相光催化氧化反应器，可更换不同氧化剂、光源、金属氧化物半导体催化膜、电子捕获器，进行化学氧化、光氧化、光化学氧化、光催化氧化和光化学催化氧化等5种类型多种组合试验，处理水中难降解有机物效果明显。设备具有持久性、灵活性、捕电性、简易性，适用于科研、工程试验中，亦可作教学设备。     

关于半导体行业含氟废水的处理策略探讨

随着科技的发展,中国也逐渐开始转向电子整机产品生产,半导体行业的加入更是加快了中国转向的步伐,让中国获得了大量的需求和机遇,半导体行业的企业也开始大量在中国建立生产基地。半导体行业在中国迅速发展的同时也给中国带来了新的环境问题,其中半导体行业生产的含氟废水对于环境的危害最为严重。本文首先分析半导体行业含氟废水的产生,然后概述含氟废水的处理方法,最后探讨处理半导体行业含氟废水的有效策略。寄希望对我国半导体行业含氟废水的有效处理提供帮助。     

用于光频标半导体激光器温度控制电路的设计

半导体激光频标的核心是半导体激光器，其输出激光的线宽与稳定性是影响频标性能指标的重要因素之一。半导体激光器对工作温度很敏感，需要有恒定温度保证半导体激光器工作稳定。本文在借鉴常用的一些温控电路的基础上，给出了一种实用的控制精度较高的温控电路设计，实现了对激光器工作温度的控制。并对整个电路做出了实验仿真和测试，系统控温精度达到0．01℃。     

劳动合同管理：精细化与人性化结合——访有研半导体材料股份有限公司副总经理陆彪

近年来，随着市场经济的发展，企业改制、重组、产业结构等各方面的调整，劳动关系日趋复杂化、多样化，于是因劳动合同而引发的工资、保险、福利、终止或解除劳动合同、经济补偿金和违约金等劳动争议日益增多。究其缘由，绝大多数是因为企业在劳动合同管理方面做得不规范所引起的。就企业应该如何加强劳动