首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   169篇
  免费   15篇
  国内免费   152篇
安全科学   8篇
废物处理   15篇
环保管理   7篇
综合类   193篇
基础理论   44篇
污染及防治   69篇
  2022年   1篇
  2021年   2篇
  2020年   2篇
  2019年   2篇
  2018年   2篇
  2017年   8篇
  2016年   15篇
  2015年   12篇
  2014年   11篇
  2013年   19篇
  2012年   28篇
  2011年   19篇
  2010年   15篇
  2009年   24篇
  2008年   15篇
  2007年   22篇
  2006年   24篇
  2005年   17篇
  2004年   20篇
  2003年   17篇
  2002年   17篇
  2001年   9篇
  2000年   7篇
  1999年   7篇
  1998年   3篇
  1997年   7篇
  1996年   2篇
  1995年   1篇
  1991年   3篇
  1990年   2篇
  1989年   1篇
  1988年   2篇
排序方式: 共有336条查询结果,搜索用时 437 毫秒
321.
菌株Sphingomonas sp. FL降解溴氨酸的特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
分离了1株溴氨酸降解菌,其可以溴氨酸为唯一碳源进行降解并使其脱色,通过16S rRNA基因序列比较和生理生化特性分析,将其归为鞘氨醇单胞菌属.溴氨酸降解和菌株生长的最适条件为:温度30℃,pH 7.0,摇床转速100 r/min ,(NH4)2SO4作为氮源,在此条件下,溴氨酸(100 mg/L)在14 h内的脱色率可达99%.低浓度NaCl(<2%)对脱色有促进作用,而高浓度NaCl(≥2%)对脱色产生抑制.以Haldane底物抑制模型表征溴氨酸初始浓度对脱色的影响,确定当初始浓度为1 393.5 mg/L 时可取得最佳比降解速率1.4 h-1.菌株不能将溴氨酸完全矿化,至反应终点52.4%的有机碳得到去除.利用GC-MS和HPLC-MS分析代谢产物显示,溴氨酸降解的中间产物是邻苯二甲酸,终产物可能为2-氨基-3-羟基-5-溴苯磺酸或2-氨基-4-羟基-5-溴苯磺酸,邻苯二甲酸可经3,4-二羟基苯甲酸途径进一步降解而被菌体利用.  相似文献   
322.
肠杆菌对偶氮染料活性黑5的脱色研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
从实验室处理印染废水的改良厌氧-缺氧-好氧系统的活性污泥中分离出对偶氮染料具有脱色活性的菌体,研究了不同pH值、脱色温度、接菌量以及装液量等条件对菌株降解活性黑5的影响,并设计正交实验,获得其降解模拟偶氮染料废水的最佳反应条件.研究结果表明,菌株Enterobacter sp.Gl在30℃、pH为6、装液量为100 m...  相似文献   
323.
印染行业的废水含有多种染料,具有较深的色度,从而影响六价铬的测定.因此印染废水的脱色对六价铬的分析非常重要.本文主要利用活性炭吸附有机染料的特性,对六价铬分光光度法测定的前处理进行了优化探讨,使废水中的染料被吸附的同时,不影响六价铬的测定.研究结果表明,在pH>8.5时,活性炭对六价铬基本没有吸附,其他因素的影响也较小,可以用活性炭来处理高色度印染废水,同时确定了活性炭脱色的用量以及前处理的过程.  相似文献   
324.
锰过氧化物酶的固态发酵及其对染料的脱色作用   总被引:2,自引:1,他引:1  
采用稻壳作为基质,利用裂褶菌F17固态发酵产锰过氧化物酶(MnP),通过正交实验对发酵条件进行优化,并对5种不同结构类型的染料进行脱色.结果显示,含水率、温度、Mn2 、Cu2 对裂褶菌F17产MnP有显著影响;MnP发酵的最优化条件为稻壳27g、黄豆粉3g、MnSO40.4mg·g-1、含水率150%、接种量50%、培养温度22℃,pH不调节,优化后酶活达到16.39 U·g-1,比优化前的酶活9.20 U·g-1提高了78.2%.优化后的发酵体系对染料刚果红、茜素红、Poly R-478、中性红和结晶紫的24h脱色率分别达到92.6%、90.3%、93.1%、87.3%和95.6%.  相似文献   
325.
湿式过氧化氢氧化处理高浓度染料废水的工艺研究   总被引:10,自引:0,他引:10  
采用湿式过氧化氢氧化-铁屑过滤-混凝技术处理高浓度偶氮染料废水,用难生化降解的甲基橙进行模拟试验。实验结果表明,该工艺COD和色度的去除率分别高达85%和99%。湿式过氧化氢氧化处理过程受温度、硫酸投量、Fe^2 投量、H2O2投量的影响,反应温度对COD和色度的去除率影响较大,COD去除率的增加与H2O2投量成正比,色度的去除率随COD的增高而增大。  相似文献   
326.
镁铝双氢氧化物用于染料废水脱色的研究   总被引:1,自引:1,他引:1  
以氯化铝、氯化镁、氨水等为原料,合成了镁铝双氢氧化物正电溶胶(MADH).以水溶性染料模拟废水为研究对象,检验了MADH对染料废水的脱色效果,并对其脱色机理进行了探讨. 结果表明,MADH对活性染料、酸性染料和直接染料等阴离子型染料具有明显的脱色效果.在足量MADH存在的条件下,废水脱色率可达99%以上,最佳pH为6~9,最佳反应时间为10 min.温度升高不利于吸附过程的进行,其饱和吸附容量为327~2 113 mg/g.MADH用于实际印染工业废水处理,脱色率和CODCr去除率同样较高.脱色机理为MADH对染料的化学吸附作用.MADH对阳离子型染料的去除效果较差.   相似文献   
327.
曲霉菌丝球HX对偶氮染料的吸附脱色   总被引:4,自引:1,他引:4  
采用富积和驯化方法选育出的曲霉菌丝球HX对不同种类染料表现出高效吸附性能,可在12h内完全吸附200mg/L的直接染料、分散染料及活性黄X-R的颜色,并且研究了碳源质量浓度、氮源质量浓度、盐度、培养条件及优化条件组合对菌丝球HX吸附活性艳红X-3B的影响,结果表明:随碳源质量浓度的增加,吸附率相应增加,质量浓度为10.0g/L以上时,72h及以上的吸附率大于92.3%;氮源质量浓度高于0.75g/L时对吸附率影响不大;随盐度增加,染料吸附率有所下降.在温度为25~35℃、染料培养基pH为5.0~7.0、供氧充足的条件下吸附率较高.在所筛选的最佳吸附条件下,菌丝球HX对活性艳红X-3B表现出了更好的吸附效果.图6表3参9  相似文献   
328.
从长期受染料污染的土壤中分离出一株能对甲基橙高效降解脱色的柠檬酸盐杆菌Citrobacter sp.LW-3.菌株LW-3在添加了0.5%(g/100 mL)葡萄糖的MSM-1培养基中,16 h使100 mg·L-1甲基橙降解掉90.56%.该菌株对甲基橙降解脱色可在完全好氧条件下,脱色与木质素过氧化物酶、NADH-DCIP原酶、核黄素还原酶有关.菌株LW-3降解甲基橙的适宜温度较广,20~40℃24 h均能使超过80%的甲基橙降解脱色,适宜pH范围为6.0~8.0.通气量对菌株LW-3影响较小,24 h各装液量组(25~200 mL)甲基橙均能降解近90%.同时,菌株LW-3具有较广的染料降解谱,3 d内可使20 mg·L-1另3种偶氮染料、两种三苯甲烷类染料和一种蒽醌类染料很好脱色.菌株LW-3在染料废水的生物处理方面有较强的实际应用价值.  相似文献   
329.
东方伊萨酵母YP-1对染料活性艳红K-2BP的脱色   总被引:4,自引:1,他引:4       下载免费PDF全文
利用含染料的选择性培养基从土壤中分离出一株对活性艳红K-2BP有明显脱色效果的酵母菌株YP-1,经鉴定为东方伊萨酵母Issatchenkia orientalis.结果表明,该酵母菌对£400mg/L的活性艳红K-2BP有较好的脱色效果.对于活性艳红K-2BP起始浓度为100mg/L的培养基,该菌株可在12h达到99%以上的最大脱色率,其最佳接种量为10%(体积分数),最适pH值在3~9之间,氮源(NH4)2SO4的浓度30.02%,碳源葡萄糖的浓度30.2%.脱色机理研究结果表明,该酵母对活性艳红K-2BP的去除是先吸附后生物降解.此外,该菌株对初始浓度为200mg/L的偶氮染料活性黑KN-B的脱色率也可达99.5%.  相似文献   
330.
宋敏  张琳萍  钟毅  徐红  毛志平 《环境科学》2015,36(3):989-994
以微胶囊技术为负载手段,将一种具有高效催化氧化活性的双核锰配合物Mn L负载到了乙基纤维素微球中,采用电感耦合等离子发射光谱仪(ICP)、紫外可见(UV-VIS)光谱扫描、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)等表征测试手段对该微球负载催化剂进行了相关的形态结构表征,发现催化剂Mn L在乙基纤维素微球基质内分散良好,并保持了其原结构的完整性.将制备的该Mn L负载微球用于催化活性蓝P-3R溶液模拟染料废水的氧化脱色反应,表现出了很好的催化氧化性能.催化氧化脱色实验发现,其不仅可以催化活性蓝P-3R溶液至完全氧化脱色,并具备一定的可循环利用性,在经过4次循环使用后仍可催化活性蓝P-3R溶液达到70%以上的氧化脱色率,可以作为一种新型的非均相CWPO催化剂用于染料废水的脱色处理.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号