ArF准分子激光器废气分析及处理技术

随着稀有气体卤化物准分子激光器的推广应用,直接排入大气中的废气给人体和环境带来了严重危害。为了降低其危害程度,分析了Ar F准分子激光器工作气体反应动力学和废气成分,得知其危害主要来源于废气中的含卤气体。卤化物准分子激光器废气处理装置具有两级吸收净化含卤气体的功能,采用总体积约50 L的Na OH(1.0 mol/L)和Ca(OH)2(0.02 mol/L)碱液对废气中含卤成分进行第一次吸收,采用总质量约1.0 kg的Ca(OH)2和Ca O固态碱性粉末(质量比为74∶112)固态碱性混合物对废气进行进一步净化。使用该装置对医用型Ar F准分子激光器的废气进行净化处理实验研究,实验结果表明,该废气处理装置可以吸附废气中95.6%的氟气,而且当碱液吸附效果不明显时,只需增加质量约74 g的Ca(OH)2可恢复其活性。     

半导体厂酸性含氟生产废水处理系统

介绍了调节池-二级反应池-絮凝池-沉淀池-生物滤池工艺用于半导体厂酸性含氟废水的处理系统及其主要构筑物。半导体生产废水中氟化物浓度较高,呈酸性p H值为1~3。自2013年12月调试正常运行以来,效果良好,出水各项指标完全达到设计和排放要求。     

简单有效 EHS管理做得到——走进库力索法半导体（苏州）有限公司

半导体作为一种重要的材料,广泛应用于家电、通信、网络、航空航天和国防等各行各业。库力索法半导体（苏州）有限公司（以下简称库力索法公司）就是一家生产半导体制造设备所需耗材的企业。作为美国Kulicke＆Soffa集团在中国苏州的独资子公司,自成立以来它已有12年的发展历史。     

认清市场现状助推中国“芯”成长

正芯片是半导体元件产品的统称,承担着运算和存储的功能,可以形象地称之为人的"大脑中枢",安防真正想做到安防智能化、网络化、数字化必须靠这个强大的芯片来做支撑。而中国"芯"知识产权自主化是行业发展必然趋势,安防行业需要这样的引擎来带动市场。一、芯片四大"特性"带来完美体验安防用的芯片具有几个显著特点:一是长时间不间断工作,二是多视频的集中管理,三是视频信息的安全和稳定性要求,四是视频的实时传输和存储要求。这些特点使得芯片和     

LaVO_4/TiO_2光催化复合材料对芥子气模拟剂2-氯乙基乙基硫醚的降解性能

通过可见光响应半导体的复合,成功提高了TiO2对芥子气模拟剂2-CEES降解的光催化活性.TiO2在掺杂1wt%LaVO4时可见光催化活性最高,LaVO4/TiO2在24 h后对甲苯的降解率仍然保持在70%以上,对0.24 g·L-12-CEES的太阳光催化降解率较商业化TiO2提高20%.     

家庭必备防灾器材

2005年第9号台风“麦莎”的横行,增强了人们的防灾意识。但家庭中应常备哪些防灾器材呢？首先听到预警后,一要准备3天左右的方便食品及应急物品,手电筒、半导体收音机、手机和适量现金;二要准备全家3天的饮用水,最好是未曾启封、未过期的瓶装水,简单的时令衣物,御寒用品和生活必需品;三要准备慢性病人常用药,再备一些预防感冒、痢疾的药品和维生素类常用药物;四要准备绳索,以备在困难的路途行动时,相互牵着绳索行走。     

10kV环网柜二次控制回路数字化控制器的设计

传统10kV环网柜的二次控制回路由接触器、继电器等模拟电路组合而成,因银川地区风沙、凝露、灰尘等因素使得传统10kV环网柜二次控制回路故障率高、维修频繁,导致配电自动化“三遥”指标低。为解决环境因素造成的“三遥”指标低的问题,提出了利用数字信号处理器(DSP)替代传统模拟控制回路中的大部分逻辑电路,利用无触点功率半导体电力开关替代接触器功能的数字化控制器方案。从数字化控制器外接线设计及技术原理,控制器硬件电路设计以及软件设计三个方面对方案进行详细介绍。通过研制样机和现场运行验证了方案的正确性与可行性,彻底解决了10 kV环网柜二次控制回路故障率高的问题,有效提升配电自动化“三遥”指标。     

半导体复合系光催化降解水溶性染料研究

研究了半导体复合体系ＺｎＯ－ＣｕＯ－Ｈ２Ｏ２－ａｉｒ对水溶性染料活性艳红Ｘ－３Ｂ等六种有机物质的光催化降解处理，得到了较高的脱色效果和ＣＯＤ去除率。讨论了不同染料光解难易的原因以及脱色率和ＣＯＤ去除率的差异。     

Tm：YAP激光晶体的生长及激光性能的研究

采用提拉法生长了高质量的4%（原子分数）Tm∶YAP晶体。X射线粉末衍射分析确定生长的晶体为Tm∶YAP晶体。吸收光谱分析表明Tm∶YAP晶体在688和794nm有较强的吸收峰。采用793nm激光二极管泵浦Tm∶YAP晶体,实现了2.01μm激光输出,最大输出功率5.1W,光转换效率为37%,斜率效率高达43.5%,连续可调范围从1894～2066nm,在2010nm得到最大的输出功率值为1.84W。     

微电解处理半导体含铜废水研究

半导体废水中,含铜废液一般采用委托处理的方式,而含铜废水通常采用与酸性废水混合后进入中和系统再排放。在300 mm晶圆制造过程中,由于含铜废水水量波动大,如果未经有效处理就排放,容易造成总排口铜的超标。采用铁炭微电解对半导体含铜废水处理,研究表明:投加铁炭填料100 g/L,pH调至2.2,反应60分钟进水水质指标范围,铜的去除率可以达到97%以上。