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101.
“我们已经踏上了一段艰难的征途,成为一家完全支持地球资源可持续利用的公司,我们深知,实现这一目标不仅需要时间,还面临严峻的挑战。”——飞思卡尔半导体(中国)有限公司《生态设计声明》[编者按] 相似文献
102.
半导体制造业作为信息产业的基础,半导体元件的需求增长迅速。半导体行业的环保节能研究已成为技术发展的主题。全氟化碳(PFCS)为目前认为具有高温室气体暖化潜势的气体,也是《京都议定书》控制的6种温室气体之一,对气候的影响能力不可忽视。全球各半导体行业、环保部门及相关研究机构仍在不断努力减排。本文从半导体行业中PFCS的排放现状、产污环节、排放特点、污控途径、激励措施等方面对其减排途径进行了研究和分析。 相似文献
103.
半导体行业含氟废水处理的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
在过去几年,中国的半导体工业得到了迅速的发展,同时也带来了新的环境问题,其中尤以含氟废水的危害最为严重。文章详细介绍了某半导体企业含氟废水处理站,包括含氟废水的来源,危害,常用的处理方法,实验情况,本工程采用的工艺流程和运行情况等。实验数据和工程运行情况都证明,pH值为7.5—8.5时,以化学沉淀法和混凝沉淀法处理含氟废水效果最好。实践证明利用强酸强碱调节废水pH值后,采用CaCl2处理含氟废水,具有操作简便和处理费用低等优点,同时针对CaF2沉淀对处理设备的影响提出了有效措施。 相似文献
104.
水溶液中三氯甲烷的半导体光催化降解的研究 总被引:8,自引:0,他引:8
本文以TiO_2为催化剂,采用300W高压汞灯对水溶液中三氯甲烷进行了光催化降解。实验表明,经80分钟光照后,水中的三氯甲烷浓度可以从50ppm降至8ppm。其降解产物为HCl和CO_2。 相似文献
105.
106.
采用控制MLSC为2000mg/L的静态试验,研究GaAs、Ga~(3+)、In~(3+)、As(V)对活性污泥脱氢酶、脲酶、蛋白酶活性的影响.结果表明,抑制10%脱氢酶、脲酶活性的GaAs浓度分别为80.3mg/gMLSS和29.0mg/g MLSS;抑制10%脱氢酶、脲酶、蛋白酶活性时,Ga~(3+)浓度分别为228.5mg/gMLSS、56.0mg/g MLSS、204mg/g MLSS;In~(3+)浓度则分别为25.4mg/g MLSS、89.0mg/g MLSS、132.4mg/g MLSS;As(V)浓度分别为552.6mg/g MLSS、464.6mg/g MLSS、193.7mg/g MLSS. 相似文献
107.
半导体氧水化物超细粉末对Cr(Ⅵ)的光催化还原作用研究 总被引:9,自引:0,他引:9
对不同反应条件下ZnO/TiO2超细粉末艰水溶液中六价铬的还原作用影响进行了研究与对比,结果表明,半导体氧化物ZnO/TiO2对水溶液中六价铬有明显的光催化还原作用,ZnO比TiO2的效果更显著,经90min处理后,Cr(VI)含量从初始的100mg/L降为0.47mg/L以下;可降解有机物的存在能促进反应的进行,提高六价铬的转化率,随着pH值的升高,光催化效果减弱,本文还对反应机制和反应速度与反 相似文献
108.
国家半导体行业VOC排放标准制订研究 总被引:1,自引:0,他引:1
随着近年来我国半导体产业的持续繁荣发展,中国已成为全球半导体制造增长最为迅速的市场。为有效控制监管半导体生产过程中大量使用的各种有机溶剂所产生的废气中可挥发性有机物(VOC)的排放,加强行业污染控制,规范行业环境保护管理工作,对制订半导体行业VOC排放标准进行了研究。概述了半导体行业VOC排放的特点。分析了该行业对VOC排放的治理技术。阐述了美国和中国台湾地区有关半导体行业VOC废气的排放标准。从国内半导体企业VOC治理现状、现有监测技术、VOC排放管理方式等方面探讨了我国半导体行业VOC废气排放标准的制定思路。 相似文献
109.
110.
环境光化学反应装置(EPRE)的研究进展 总被引:3,自引:0,他引:3
本文从环境光化学学科的演进过程,概括性地论述了环境光化学反应装置消除环境水、气和植物中有毒有害物质的反应机理,建立起环境光化学反应装置的分类概念,描述了目前环境光化学反应装置的研究现状和工业化应用尚存在的的问题,展望了该领域光明的发展前景。 相似文献