印染工业污染源控制对策研究

针对印染废水经一级处理后难以达标、二级处理工艺难以推广应用的现实,提出节约用水、综合利用、清浊分流、工艺改革、精心管理等控制污染源的对策,以达到节水减污的目的.     

不同草种在粉煤灰基质上生长特性的研究

通过试验，研究了粉煤灰作草坪基质时，几种常用草坪草在粉煤灰上正常出苗生长的情况，为进一步结合粉煤灰的性质和特点，进行草坪及绿化植物生长基质选配，优选最佳基质配比，制成草坪及绿化植物的种植土并进行草坪生产与应用等提供了参考依据。     

Abatement of waste gases and water during the processes of semiconductor fabrication

The purpose of this article is to examine the methods and equipment for abating waste gases and water produced during the manufacture of semiconductor materials and devices. Three separating methods and equipment are used to control three different groups of electronic wastes. The first group includes arsine and phosphine emitted during the processes of semiconductor materials manufacture. The abatement procedure for this group of pollutants consists of adding iodates, cupric and manganese salts to a multiple shower tower ( MST ) structure. The second group includes pollutants containing arsenic, phosphorus, HF, HCI, NO2, and SO3 emitted during the manufacture of semiconductor materials and devices. The abatement procedure involves mixing oxidants and bases in an oval column with a separator in the middle. The third group consists of the ions of As, P and heavy metals contained in the waste water. The abatement procedure includes adding CaCO3 and ferric salts in a flocculation-sedimentation compact device equipment. Test results showed that all waste gases and water after the abatement orocedures oresented in this article passed the discharge standards set by the State Environmental Protection Administration of China.     

前寒武纪基性岩墙群的地球化学特征与岩石成因讨论

基性岩墙群广泛出现在全世界前寒武纪地盾中 ,它的发育往往与区域性伸展构造环境有关 ,并可能与地幔柱有密切联系。前寒武纪出现的基性岩墙群以拉斑玄武质占绝对优势 (>80 % ) ,但在新太古代—古元古代高Mg的苏长质组分和苦橄质岩石也占重要位置 ,碱性岩类则相当稀少 ;而在新元古代碱性岩墙则变得很重要。基性岩墙群总体以富集LREE和大离子亲石元素为特征 ,其中在苏长岩中更为富集。基性岩墙群的岩浆有多种来源 ,其中苏长质岩浆主要来源于太古宙的陆下岩石圈 ,而拉斑玄武质岩浆多来源于主要由主体地幔组分 (PREMA)构成的地幔柱。地壳混染总体说来不是造成基性岩墙同位素及地球化学特征的主要机制。     

半导体光催化氧化法处理印染废水的研究

研究了用光催化氧化的方法实际印染废水的可能性，催化剂为TiO2，并将其制膜固定在光反应器内壁上，以125W高压汞灯为源，对某丝绸厂的印绸厂的印废水进行了处理实验，取得了脱色率100％，CODCr去除率85．6％的效果。     

BSBR工艺处理生活污水的试验研究

BSBR是将SBR法和接触氧化法相结合的一种新型生物膜法处理工艺，它集SBR与接触氧化法两者优点于一身，对废水有较好的处理效果。以BOD5、NH3-N为指标，以曝气时间和pH值为变量，确定BSBR工艺处理生活污水的最佳曝气时间为4h，最佳DH值为7．5。实验结果显示，在最佳运行条件下，4hBOD5去除率达66．09％，NH3-N的去除率达36．43％，去除NH3-N的能力明显优于生物接触氧化法，出水的各项指标达到GB8978—1996的排放要求，为高效、低耗处理生活污水提供了新的途径。     

印染行业的环境污染与清洁生产

本文介绍了印染行业的现状和对环境的危害，提出了印染行业实施清洁生产控制水污染的具体途径。     

BT－1净水剂在活性印染废水处理中的应用

本文探讨了ＢＴ－１净水剂在活性印染废水处理中的应用条件、脱色率、ＣＯＤ脱除率及ＰＶＡ脱除率。实验表明它是一种高效印染废水处理剂，具有推广价值。