包含共振机理的声子晶体声屏障设计与降噪性能测试

针对轮胎-路面噪声,基于U型理论模型探究并优化了3种腔体形式声子晶体的能带结构,最终设计出一种"宽频多带"的沙漏型声子晶体,并以此为基础建立了新型交通声屏障,且进行了降噪性能测试.结果表明:对于噪声特征频段覆盖率,沙漏型＞锥型＞直线型,且禁带范围可通过腔体尺寸进行有效调整;对于声子晶体声屏障降噪效果,将Bragg散射与...     

环保门槛降低的代价

“你看这块硫酸铜晶体原料就值几千块钱,可惜了,该搬的都基本搬走了,工人也走了……”偌大的兴业电镀厂内杂乱不堪,生产主管老覃点燃一支烟满脸无奈却颇为平静地对记者说。兴业,或许当初取名时怎么也没想到,作为首批进入广东省四会市南江工业园的“开荒牛”企业,五金电镀业内的“翘楚”,如今就这样“出师不捷”、被迫撤离。     

微污染含藻水处理技术的应用

针对微污染含藻滦河水,控制投加0.3mg/l～0．6mg/l的硫酸铜,接触8小时以上,可以去除约50％的藻类和浊度;投加0．3mg／1～0．8mg/l的HCA,控制进厂原水浊度10NTU以下,藻类低于1000万个／L,总铁小于0．3mg／l,CODM。不超过4．0mg／l;经过常规处理工艺后,再根据pH值大小在滤后水中投加氢氧化钠调值,控制出厂水pH值在7．5左右。生产运行实践表明：这一系列措施大大改善了现有构筑物条件下出厂水水质,同时降低了对管网的腐蚀。     

硫酸铜和氰戊菊酯对斑马鱼急性毒性试验

为探究重金属和农药对斑马鱼的毒性与安全评价,选用硫酸铜、氰戊菊酯对斑马鱼进行急性毒性试验,以24～96h半致死浓度(LC50)判定斑马鱼对这两种药物的敏感性.结果表明,硫酸铜24 hLC50、48h LC50、72 h LC50、96h LC50分别为12mg/L、7.9 mg/L、6.8mg/L、5.4 mg/L;氰戊菊酯24 h LC50、48h LC50、72h LC50、96h LC50分别为1.2×10-4 mg/L、0.9×10-4 mg/L、0.9×10-4 mg/L、0.9×10-4 mg/L; 硫酸铜安全质量浓度为1.03mg/L,氰戊菊酯为1.52×1O-5 mg/L.参照我国化学物质对鱼类毒性分级标准,判定硫酸铜对斑马鱼急性毒性为Ⅱ级,氰戊菊酯对斑马鱼急性毒性为Ⅰ级.     

腐殖酸与钙离子共存下ZVI界面沉积过程

为精准分析环境介质在零价铁（ZVI）界面沉积过程和沉积层特性,采用喷涂方法制备ZVI负载芯片,应用耗散式石英晶体微天平（QCMD）研究了腐殖酸（HA）与钙离子（Ca（Ⅱ））在ZVI界面沉积吸附过程的差异,并探讨了Ca（Ⅱ）浓度与HA/Ca（Ⅱ）投加顺序对沉积过程的影响机理.结果表明,在反应体系中先通入HA相较先通入Ca（Ⅱ）,ZVI表面形成的沉积层质量更高、沉积层结构更稳定;HA沉积后可促进Ca（Ⅱ）沉积,然而Ca（Ⅱ）先沉积后HA沉积量较少,很大程度上与吸附层外层结构组成差异相关.此外,发现随着Ca（Ⅱ）浓度从10mg/L升高至200mg/L,Ca（Ⅱ）沉积速率加快,界面沉积量增多.QCMD耗散变化研究发现,当Ca（Ⅱ）浓度从10mg/L提高至100mg/L,沉积层耗散变化值（ΔD）逐渐下降,沉积层转变为刚性结构;Ca（Ⅱ）浓度继续加大到200mg/L,ΔD升高趋势,沉积层构象呈现疏松态.应用QCMD可实时监测ZVI钝化层形成的动态变化过程,提供了ZVI界面吸附层变化特征等关键信息.     

催化超临界水氧化法去除焦化废水中的氨氮

采用催化超临界水氧化技术处理焦化废水.实验结果表明:升高反应温度、增加反应压力、延长反应时间可提高废水中氨氮去除率;在反应时间为60 s、反应压力为30 MPa、反应温度为460℃的最佳实验条件下,未加入催化剂时的氨氮去除率为53.7％,加入催化剂后,氨氮去除率大幅提高,以MnO2为催化剂时氨氮去除率为86.9％,以CuSO4为催化剂时氨氮去除率为92.4％.     

喀斯特洞穴晶体生长速率的古气候重建意义

为了从石笋中提取更多的古气候信息,以用于气候预测,需要研究现代洞穴沉积过程与周围环境变化的关系。本文通过对贵州5个洞穴现代沉积玻片上菱形方解石的长度与滴水变率观测研究发现,在洞穴滴水不间断的情况下,滴水变率较小的滴水点,菱形方解石晶体长轴生长速率较快,反之,生长速率较慢。反映在石笋中,石笋晶体粒径较大说明处于降水稳定时期,石笋晶体粒径较小指示沉积时期降水变率较大,气候不稳定。     

Fabrication and photoelectrocatalytic properties of nanocrystalline monoclinic BiVO4 thin-film electrode

Monoclinic bismuth vanadate(BiVO4) thin film was fabricated on indium-tin oxide glass from an amorphous heteronuclear complex via dip-coating.After annealation at 400,500,and 600°C,the thin films were characterized by X-ray diffraction,field emission scanning electron microscopy,X-ray photoelectron spectroscopy,and UV-Vis spectrophotometry.The BiVO4 particles on the ITO glass surface had a monoclinic structure.The UV-Visible diffuse reflection spectra showed the BiVO4 thin film had photoabsorption propertie...     

溶解性微生物产物在GO/PVDF杂化膜面的污染行为

为了解析溶解性微生物产物（SMP）在GO/PVDF杂化膜面的污染特性,对膜片进行了宏观污染实验,并采用耗散石英微晶天平（QCM-D）从微观角度分析了SMP在自制镀膜芯片上的吸附规律和污染层结构变化.结果表明,GO含量为0.5wt%的膜污染恢复率最高（79.95%）,抗污染能力最强.QCM-D实验发现,GO含量为0wt%镀膜芯片表面SMP吸附量最大,污染较为严重.膜片亲水性越强,吸附频率变化越小,抗污染能力越强.此外,GO含量为0.5wt%镀膜芯片表面的污染物结构比较疏松和柔软,其他膜表面的污染物结构较为坚硬和致密.