浊点萃取技术在环境样品痕量元素分析中的应用研究进展

浊点萃取法是近年来发展起来的一种绿色环保的样品前处理技术.本文详细介绍了浊点萃取方法的原理,对国内外近5年来(2008年—至今)利用浊点萃取与几种常见的原子光谱分析仪器以及与电感耦合等离子体质谱仪联用技术,在环境样品中痕量元素分离和富集以及形态分析中的应用研究进展进行了评述.同时对浊点萃取技术目前的最新发展方向、尚存在的问题以及发展前景进行了逐一探讨.     

等离子在卷烟厂除异味系统中的应用研究

卷烟厂中存在很多醛,酮有害气体,会大大降低工作环境的质量。针对此问题,提出了在高压直流上叠加高频电压交流脉冲的基础上调节可变电容改变电路阻抗的方法改进等离子体除异味装置。在高频高压脉冲电源下,利用可变电容与交直流叠加技术,产生高频高压快速上升沿的交流脉冲,改变负载回路上的阻抗,比较品质因数不同情况下产生的等离子,满足产生更佳低温等离子体的需求。经仿真实验结果和烟厂异味气体的成分分析表明,利用该方法可以达到除异味的理想效果,使工作环境得到更大更好的改善。     

挥发性有机物处理新技术的研究

随着VOCs处理要求的不断提高,新型的VOCs处理技术日益受到关注。详细分析了生物法、光催化氧化法以及等离子体催化氧化法VOCs处理新技术的研究进展。高效微生物的筛选、新型生物填充材料的研究使生物法VOCs处理更加实用;光催化剂的表面改性有助于防止催化剂钝化,保证光催化系统的长期稳定运行;等离子体催化氧化VOCs过程中能耗的降低以及副产物的控制将是下一步研究的重点。     

PP-g-GMA-DETA螯合纤维吸附处理含Pb2+废水

采用低温等离子体技术将甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）接枝在聚丙烯（PP）纤维表面,再用二乙烯三胺（DETA）胺化,制得PP-g-GMA-DETA螯合纤维,并应用于含铅模拟废水的处理。考察了吸附时间、溶液pH和初始Pb²⁺质量浓度对吸附量的影响。实验结果表明：PP-g-GMA-DETA螯合纤维对Pb²⁺的吸附速率很快,15 min时基本达到平衡吸附量,约为24.83 mg/g;随溶液pH的增加吸附量先迅速升高后保持平稳,在溶液pH为5.0时达到25.37 mg/g;随初始 Pb²⁺质量浓度的增加,吸附量迅速上升,当初始Pb²⁺质量浓度达到60 mg/L后,吸附量增长缓慢,最终保持吸附平衡。PP-g-GMA-DETA螯合纤维对Pb²⁺的吸附符合Langmuir等温吸附模型,是典型的单分子层吸附,饱和吸附量为31.40 mg/g。     

电感耦合等离子体质谱法测定饮料中的铀

建立了电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定饮料中的铀.对不同基质的饮料进行了前处理方法的摸索,从精密度和回收率考察了方法的准确性,相对标准偏差(RSD)为1.67%-8.21%(n=6),加标回收率为96.0%-109.0%,方法检出限为0.010μg·l~(-1),方法准确可靠.     

上海市城区道路降尘中铂元素污染分析及评价

利用微波消解、电感耦合等离子体质谱法测定上海城区降尘中Pt浓度,采用数学校正法消除Hf对Pt分析带来的干扰.结果表明,上海城区降尘中Pt含量为6.2~381.4ng/g,平均含量37.3ng/g.富集因子计算表明上海降尘Pt含量主要受到人为因素的影响.降尘中Pt含量与交通流量有密切关系,交通流量越大,降尘中Pt含量越高.与世界其他城市相比,上海城区Pt污染较小.上海城区道路降尘中Pt含量明显高于大气PM10中的含量.     

ICP-AES测定电镀污泥中的金和钯

介绍了含贵金属电镀污泥的样品采集、制备和预处理方法,并对有关问题进行了讨论.研究了电感耦合等离子体-原子发射光谱(ICP-AES)直接测定电镀污泥中微量金、钯的分析方法.结果表明:在选定的最佳仪器工作条件下,金、钯的检出限分别为0.015和0.018 mg/L,加标回收率为94.0%～104.0%,相对标准偏差小于3%.该方法可用于电镀污泥中微量金、钯的测定      

ICP-AES测定冶炼废水中七种杂质元素

本文对冶炼废水中的Cu,Pb,Zn,Cd,Cr,Hg和As等的快速测定方法作了探讨.与分光光度法、原子吸收法相比,电感耦合等离子体原子发射光谱仅(ICP-AES)能同时测定多种元素,方法简便、快速、精密度好、消耗试剂少等优点.     

介质阻挡等离子体放电与催化联用技术分解苯

采用介质阻挡等离子体放电与催化剂MnO₂联用技术对苯去除进行了研究.结果表明,加入MnO₂可充分利用O₂和产生于介质阻挡等离子放电区的O₃,能够增加苯氧化分解为CO₂的程度,且苯去除的能量效率是不用催化剂时的2倍.催化剂MnO₂苯去除率有显著影响.当能量密度低于564J/L时,MnO₂离放电区的距离越近,苯的去除效果越好;当能量密度高于1051J/L时,苯的去除效果与MnO₂离放电区的距离有关并有一个最佳值.阐述了苯在等离子体放电区以及MnO₂上的氧化机理.     

有机硅等离子体聚合物复合膜的制备及氧氮选择透过性能

四种有机硅单体,即乙烯基三甲基硅烷(VTMS)、乙烯基甲基二乙基硅烷(VMDES)、八甲基环四硅氧烷(D_4)和六甲基二硅氧烷(M_2),在13.56MHz钟罩式等离子体发生器中,分别进行等离子体聚合,聚合物沉积在多孔聚丙烯底膜celgard 3401表面。在放电功率50W,体系压力12—30Pa,反应时间15—60min时,形成具有氧氮选择透过功能的有机硅等离子体聚合物复含膜。其氧气透过速率Jo_2是12.7—5.7×10~(-66)Cm~3(STP)/cm~2·s:cmHg,氧氮分离系数αO/N是3.78—4.07。等离子体聚合物层的厚度约0.1—0.2μm。根据它们的扫描电镜照片、红外光谱和元素分析数据,讨论了具有气体选择透过性能的等离子体聚合物复合膜的形反过程;底膜性质对复合膜性能的影响;等离子休聚合物层的化学结构和组成,以及它们同复杂等离子体聚合反应历程之间的关系