电石渣－铁屑法去除硫酸废水中的氟和砷

对各种处理含氟、砷废水的方法进行了探讨，选择了以电石渣和废铁屑为药剂去除硫酸废水中氟和砷的方法，取得了较好的效果。该法以废治废、工艺简便、运行费用低，处理后的废水可达排放标准。     

分子筛生产废水中悬浮物的絮凝与回用

对分子筛生产废水进行了絮凝沉降分离试验，确定了絮凝剂、助凝剂及絮凝敢分离条件。试验结果表明，絮凝沉降所得到的絮凝物料的化学组成、结构、性能与絮凝前原废水中的悬浮物基本一致，可返回原生产工序中使用。     

O／W型乳化液的处理

采用药剂破乳－电解破乳工艺处理Ｏ／Ｗ型乳化液，药剂破乳选用聚合硫酸铁为破乳剂，破乳时最佳ＰＨ为８，聚合硫酸铁的最佳投量为１５００ｍｇ／Ｌ，电解破乳选用铁作阳极，铝作阴极，电流密度０．８６Ａ／ｄｍ＾２，极距２５ｍｍ，电解时间３ｈ。在上述条件下，破乳效果良好，出水清澈透明，ＣＯＤ总去除率可达到９６－９７％。     

移动床生物膜反应器—膜生物反应器深度处理模拟废水及工业园区综合废水

将移动床生物膜反应器(MBBR)与膜生物反应器(MBR)有机结合,研究了该MBBR—MBR串联系统在水力停留时间(HRT)为17.50、11.75h条件下的脱碳脱氮的效果以及对工业园区综合废水污染物的去除情况。结果表明:(1)MBBR—MBR串联系统脱碳脱氮的效果良好,HRT的改变对系统的去除效果有一定的影响,随着总HRT由17.50h变为11.75h,模拟废水中COD的去除效果降低,但氨氮、硝态氮和TN的去除效果基本不受影响。(2)MBBR—MBR串联系统处理印染工业园区综合废水也有较好的效果,当进水COD、氨氮分别为150~450、20~40mg/L时,出水COD、氨氮平均分别为53.1、1.8mg/L,MBBR—MBR串联系统对COD、氨氮的去除率平均分别为80.4%、93.1%,但系统对TN的去除效果不是很理想。     

大港油田苦咸再生水反渗透工艺自动控制研究

分析了大港油田污水回用深度处理工程苦咸再生水反渗透工艺仪表配置及自动控制方式,介绍了苦咸再生水反渗透系统亟待解决的各类问题。着重论述了仪表设置、余氯控制、结垢污堵控制、微生物污堵控制的实际运行方式,探讨了苦咸再生水反渗透工艺的技术可行性和可靠性。     

制药废水有机污染物特性分析与处理

分析了某制药企业废水生物处理站进出水中有机污染物的相对分子质量分布和气相色谱—质谱图谱,提出了根据废水水质特性有针对性地确定制药废水处理工艺的新思路.实验结果表明:进出水中的有机污染物主要是相对分子质量小于1 000的物质,且主要来源于车间5排放的COD比重大、水量小的工段废水;采用旋转蒸馏预处理法处理车间5废水,可使...     

采用水解酸化-复合好氧处理制药工业废水的工艺评价

以制药工业综合废水处理为例对其采用的两级水解酸化复合好氧工艺的处理效果进行评估。按常规指标进行评估,该工艺对于制药综合废水的处理效果达到了设计目的,COD去除率可达到78.2%以上,NH+4-N的去除率达到99.3%,出水质量基本满足"污水综合排放标准(GB8978-1996)"二级标准和"辽宁省污水综合排放标准(DB21.1627-2008)";急性毒性的检测表明,经过该工艺处理后出水为低毒性;三维荧光谱分析(EEM)表明,制药综合废水经生物处理后的可溶性有机物中仍然存在难降解物质,建议增加物化处理以提高处理效果;并且制药废水经处理后的出水中的盐度对排入的生态系统存在风险,建议纳入排放标准以加强管理。     

电镀综合废水对DF膜的污染

江苏某电镀厂的电镀综合废水在采用DF膜进行预处理时,膜易受到污染。针对这一问题,采用DF膜生产厂家提供的小试装置,研究探索了膜污染的原因及其具体特征。实验结果表明,在处理电镀综合废水时,DF膜的污染速率较快,而酸洗对DF膜的恢复性较好,研究还证实电镀综合废水中的无氰沉锌水洗液是造成DF膜污染的主要原因。     

人工湿地系统处理污水新模式的探讨

本文简述了污水处理方法的概况，全面论述了人工湿地系统这一处理污水新模式的发展、工艺、基本原理。提出了设计的一般过程，结合实例说明了该系统投资省、运行费用低以及良好效果。通过总结该系统的一般特征，展示了该系统在处理污水方面具有广泛的应用前景。     

利用粉煤灰中活性炭的吸附能力治理含铬废水

通过实验研究指出，运用粉煤灰可同时治理含铬废水中Cr(Ⅲ)和Cr(Ⅵ)。结果表明，粉煤灰用量、废液酸度、振荡时间和温度等均对铬的去除效果存在一定影响。研究揭示，在常温(15～35℃)下，当粉煤灰的掺人比例为1：650、含铬废液pH为4．0～5．5、接触时间为40min时，粉煤灰可同时治理含铬废水中Cr(Ⅲ)和Cr(Ⅵ)，其中Cr(Ⅵ)的去除率在88％左右，Cr(Ⅲ)的去除率可达99％以上。该方法工艺简单，成本低廉，效果优良，具有较好的应用前景。