酸性矿山废水的处理研究

简要分析了酸性矿山废水的主要污染物及危害,叙述了几种主要的处理技术:中和法、硫化沉淀浮选法、微生物法和人工湿地,并介绍了它们的机理、特点及实验研究和工业应用情况,由此对我国的酸性矿山废水的治理技术进行了前景展望。     

安太堡露天矿南排土场滑体植被治理技术

论述了安太堡矿南排土场滑体整治模式,通过植被减少滑体侵蚀及水土流失,改善了滑体的生态景观,对滑体安全起到了良好作用。     

粉煤灰对矿井水中重金属离子的吸附研究

本文通过静态热力学实验的方法，研究了粉煤灰对矿井水中Ｐｂ＾２＋，Ｚｎ＾２＋，Ｃｕ６２＋等重金属离子的吸附性能。着重分析了ＰＨ值，吸附时间，粉煤灰活化程度等因素对其吸附能力的影响。     

磺酰脲类除草剂的残留分析

磺酰脲类除草剂是一类新型超高效除草剂，大约包括２Ｖ化合物，已被广泛用于禾谷作物防除阔叶杂草以及某些禾本科杂草，该类除草剂在环境中的残留浓度〈１μｇ．ｋｇ＾－１水平。常规的分析方法包括生物鉴定，酶免疫分析，气相色谱法和高效液相色谱法（ＨＰＬＣ）、ＨＰＬＣ／ＭＳ联用后，可以准确测定复杂环境样中磺酰脲类除草剂的痕量残留。     

锅炉烟气脱硫技术发展综述

在调查研究的基础上，论述国内外烟道气脱硫技术的发展与前景，提出开发生产适合我国国情的烟气脱硫技术势在必行。还简要介绍了最为普遍的石灰／石灰石法脱硫基本原理。     

兖州矿区基地大气环境质量状况浅析

根据兖州矿区基地近6年的大气监测资料,对区域性大气质量状况进行了分析,并提出了改善大气质量的四条措施。     

用水基表面活性剂乳液回收废白土中蜡的界面张力研究

通过测定液体与废白土粉末之间的接触角及液体与蜡之间的液液界面张力，对水基表面活性剂乳液的溶剂及配方进行了优选，得到最佳的水基面活性剂乳液的组成为：质量分数０．２％的十二烷基苯磺酸钠＋体积分数为２．５％的乙醇＋体积分数为２５％的混合烃（正己烷＋苯，等体积）＋体积分数为７２．５％的水。实验证明，用该水基表面活性剂乳液处理废白土，蜡的回收率可达８０％，同时不破坏白土的颗粒结构。     

一种新型滑动集电材料的研制及性能研究

利用粉末冶金 /挤压的方法制作了一种新型的Cu C滑动集电材料 ,并对该材料的机械物理、摩擦磨损性能进行了检测 ,结果证明该材料具有较高的抗拉强度、适中的表面硬度、较低的电阻率、优良的摩擦磨损性能 ,是一种较为优良的电力机车滑板材料。其性能测试结果和铁道部标准要求相比 ,优于铁道部标准要求。     

半干法喷射烟气脱硫试验研究

介绍了半干法喷射烟气脱硫试验 ,研究了钙硫比、雾化水量、进口SO2 浓度、湿度等主要因素对脱硫率的影响规律 ,对布袋除尘器的辅助脱硫也进行了研究。结果将有助于改进半干法脱硫技术 ,并为进一步的工业应用提供了参考数据。     

Photodegradation of acetochlor in water and UV photoproducts identified by mass spectrometry

The sunlight photodegradation half-lives of 20 mg/L acetochlor were 151, 154 and 169 days in de-ionized water, river water and paddy water, respectively. When exposed to ultraviolet (UV) light, acetochlor in aqueous solution was rapidly degraded. The half-lives were7.1, 10.1, and 11.5 min in de-ionized water, river water and paddy water, respectively. Photopreduets of acetochlor were identified by gas chromatography/mass spectrometry(GC/MS) and found at least twelve photoproducts resulted from dechlorination with subsequent hydrtrxylation and cyclization processes. The chemical structures of ten photoproducts were presumed on the basis of mass spectrum interpretation and literature data. Photoproducts are identified as 2-ethyl-6-methylaniline; N, N-diethylaniline ; 4, 8-dimethyl-2-oxo- 1,2,3,4- tetrahydroquino-line; 2-oxo-N-(2-ethyl-6-methylphenyl)-N-(ethoxymethyl) acetamide; N-(ethoxymethyl)-2‘-ethyl-6‘-methylformanilide; 1-hydroxyaeetyl-2-ethoxyl-7-ethylind ole; 8-ethyl-l-ethoxymethyl-2-oxo-1, 2, 3, 4-tetrahydroquinoline; 4, 8-dimethyl-l-ethoxymethyl-2-oxo-1, 2, 3, 4-tetrahydroquinoline; 2-hydroxy-2‘-ethyl-6‘-methyl-N-(ethoxymethyl) acetanilide and a compound related to acetochlor. The other two photoproducts were detected by GC/MS although their chemical structure was unknown.