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521.
低温脱硝技术对于氮氧化物(NOx)的脱除意义深远,而NH3选择性催化还原(NH3-SCR) NO技术不仅在燃煤工厂里有应用,也在移动源的NOx的脱除上有应用的潜能.在低温NH3-SCR技术领域,很多非钒基的催化剂材料因其优异的催化性能受到重视.简述了低温SCR技术在能源、水泥、冶金行业的技术需求,并着重介绍了各种催化剂的SCR活性、不同催化剂的催化机制和抗SO2、H2O性能.并由此得出未来工业脱硝对催化剂的高SCR催化活性、高的N2选择性以及良好的抗SO2和H2O性能的要求. 相似文献
522.
介绍了废水厌氧处理过程中H2S中毒和CO2窒息、沼气(甲烷)爆炸、腐蚀、结垢、气柜置换以及检修中需采取的安全措施。 相似文献
523.
用自制陶粒催化剂与臭氧(O_3)、双氧水(H_2O_2)构建多相催化氧化体系降解水中的刚果红。采用电镜扫描、能谱分析与红外光谱等表征了陶粒催化剂,考察了反应时间、O_3浓度、H_2O_2投加量等因素下多相催化氧化体系对刚果红色度和COD去除率。结果表明:自制的陶粒催化剂表面较为粗糙,比表面积较大,反应后的陶粒催化剂表面较为平滑,比表面积较反应前减少;自制陶粒催化剂对H_2O_2催化能力差,但对O_3、H_2O_2/O_3具有较好的催化效果。当O_3浓度在1.2~3.8 mg/L时,陶粒/H_2O_2/O_3体系较O_3、H_2O_2/O_3对刚果红(100 mg/L)的脱色率分别平均提高了11.72%、15.32%,COD去除率分别提高了16.37%、24.29%,将陶粒引入O_3、H_2O_2/O_3体系中可减少O_3和H_2O_2的用量,提高体系的氧化性能,降低运行成本。 相似文献
524.
525.
526.
527.
528.
A. Mauffret A. Rico-Rico J. Blasco 《Environmental pollution (Barking, Essex : 1987)》2010,158(2):529-535
Linear Alkylbenzene Sulfonates (LAS) effects (mortality, egestion rate, behaviour) on the marine deposit feeder Hydrobia ulvae were assessed in whole-sediment and water-only systems. The results were combined with a bioenergetic-based kinetic model of exposure pathways to account for the observed toxicity. The 10-d LC50 value based on the freely dissolved fraction was 9.3 times lower in spiked sediment (0.152 ± 0.001 (95% CI) mg/L) than in water-only (1.390 ± 0.020 (95% CI) mg/L). Consequently, the actual 10-d LC50 value (208 mg/kg) was overestimated by the Equilibrium Partitioning calculation (1629 mg/kg). This suggests that the sediment associated LAS fraction was bioavailable to the snails. It could also be due to modifications in physiological parameters in absence of sediment, the organism natural substrate. 相似文献
529.
530.
Hsiao-Ku Shih 《International Journal of Green Energy》2016,13(15):1585-1589
Nano-textured polysilicon (poly-Si) solar absorption films are to be applied to the solar receiver of solar thermal electricity Stirling engine. These films were fabricated by deposition of hydrogenated amorphous silicon films (a-Si:H) into poly-Si films, using the pulse-wave modulation plasma and furnace annealing of the a-Si:H films. This is followed by wet etching of poly-Si films into nano-textured structures. The films are then coated with a-SiNx:H films as the antireflection and protection layers. It was observed that increasing the pulsed plasma turn-on (ton) time leads to deposition of less dense a-Si:H film with high hydrogen content and void density. This results in films having low dielectric constant and refractive index, and high optical bandgap. Less-dense a-Si:H film can be transferred into large grain size poly-Si film, using annealing. Also, highly rough nano-textured surface structure can be produced, by etching. The denser a-Si:H film, large grain size poly-Si film, and nano-textured surface poly-Si film can enhance the absorbance of sunlight and reduce the emissivity of far infrared light. The nano-textured poly-Si film coated with an a-SiNx:H layer can effectively increase the absorbance of sunlight to approximately 85% and reduce the emissivity of far infrared light to 49%. The nano-textured poly-Si/a-SiNx:H films can be used as efficient solar absorption films for solar thermal electricity Stirling engine. 相似文献