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目前，常用于MOCVD技术的高纯金属有机化合物品种较多，由于这类化合物的性质非常活泼，遇微量水或氧可能使化合物的结构改变，而且这类化合物的毒性极大，对环境的影响是不可低估的。本文就采用质谱技术对这类化合物的结构进行了研究。经研究，采用情性有机溶剂在情性气流箱中配制样品溶液，按常规方法取样直接进行质谱测定。实验证明：操作简便、结果可靠。根据这些金属有机化合物的碎片离子及相对丰度对其质谱的裂解规律进行了探讨。另一重要方面是：从这些化合物的质谱的同位素峰发现了文献所没有报导过的三甲基镓的二聚、三聚的含氧化合物，三乙基镓的二聚的含氧化合物的存在． 相似文献
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