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由北京邮电学院、航天部502研究所中、科院计算所三方协同攻关历时三年余的科研项目“硫酸——过氧化氢型蚀刻体系的研制和应用”于85年由三方主营部门共同组织召开了技术鉴定会,硫酸——过氧化氢型蚀刻体系是一种蚀刻印制电路板的新型蚀刻体系,以及浸蚀和喷蚀两种腐蚀样机和工艺流程。蚀刻体系的主要技术指标均达到了国外报道水平,浸蚀样机体积小、结构合理,一台小设备可日生产100块30×30厘米双面印制板,全部设备用塑料制作,物美价廉,特别适用于印制板种类多而批量不大的研究单位和生产单位使用。本蚀刻体系是近年来英、美、日、西德等国力争解决用于减去法加工印制板的最新型蚀刻体系。它可用来代替碱性氯化铜、酸性氯化铜以及三氯化铁等腐蚀液。三氯化铁液价格低廉、材料易得、溶铜量较大,所以在相当长一段时间内一直被优先采用,但随着图形电镀工 相似文献
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