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1.
中国集成电路制造行业VOCs排放特征及控制对策 总被引:2,自引:0,他引:2
中国电子信息产业发展迅速,集成电路等电子器件产量不断增加.在集成电路制造的过程中,大量有机溶剂的使用导致VOCs的产生和排放,从而对大气环境造成影响.为掌握集成电路制造行业VOCs的排放特征,系统分析了其工艺流程和产排污环节,分析了行业废气收集和治理现状,通过对典型企业VOCs的排放监测,获得VOCs排放水平;采用排放因子法核算行业VOCs历史排放量,并基于行业排放特征及减排潜力分析,提出了相应的污染防治对策.结果表明:在集成电路制造中,VOCs排放环节主要集中在光刻、清洗、去胶等过程,1 m2集成电路产量约使用87 g有机溶剂,VOCs产生量较大;通过采取高效的VOCs治理技术,集成电路制造行业有组织排放水平较低,平均浓度为2.1 mg·m-3,但厂界无组织排放浓度相对较高,平均浓度为0.78 mg·m-3,接近国家标准的排放限值.根据排放量核算结果,2011—2016年中国集成电路制造行业VOCs排放量呈逐年上升的趋势,主要受产量增加而相应污染控制技术水平提升有限的影响,无组织排放量比重大,占排放总量的38.1%~45.1%. 相似文献
2.
新时代国土整治与生态修复转型思考 总被引:4,自引:1,他引:3
针对全球变化影响下的国土空间和生态系统,生态文明建设和国土空间规划是中国在新时代的积极响应,国土整治与生态修复的转型和提升成为必然要求。在介绍国土整治与生态修复概念内涵的基础上,指出中国国土空间生态环境问题的复杂性和生态文明建设的新理念要求决定了国土整治与生态修复的转型。从工作理念、理论基础、技术体系和制度建设等方面,分析了当前国土整治与生态修复工作中存在的不足,主要包括整体综合理念滞后、理论基础体系欠缺、技术支撑相对薄弱、体制机制不尽完善等方面。针对这些不足,提出了新时代国土整治与生态修复转型的路径和策略,主要策略包括强化系统思维、提升理论体系、加强技术支撑、完善机制建设等内容,以期为国土整治与生态修复推进美丽中国建设提供科学依据。 相似文献
4.
5.
6.
酸性矿山废水的治理技术现状及进展 总被引:4,自引:3,他引:1
酸性矿山废水(AMD)是矿山废水中危害最严重的一类废水,其产生原因和治理技术引起了广泛的重视。介绍了酸性矿山废水的主要产生原因,综述了国内外治理酸性矿山废水技术的研究现状,包括化学法、物理法、生物法、湿地法等,讨论了相关技术存在的问题,并总结了酸性矿山废水技术的新进展和发展趋势。 相似文献
7.
8.
目的研究新型改进旋混曝气器结构性能。方法向曝气池槽底放置旋混曝气器,充满水,投加还原剂(硫酸钠)和催化剂(硫酸钴)进行脱氧,待水中溶解氧质量浓度降为0后开始曝气,用溶氧仪进行数据记录,研究曝气器充氧效率,并进行对比。结果常温(20℃)同状态下通气8.5min后至饱和,通过记录测算出新型改进旋混曝气器蜀。值比常规旋混曝气器蜀。值大,充氧效率高。结论新型改进旋混曝气器的各项充氧性能提到了提高,在一定程度上提高了好氧生物处理效率,可降低污水厂的投资费用和运行成本。 相似文献
9.
Ce3+与Cu2+协同强化芬顿体系氧化苯酚的效能与机制研究 总被引:1,自引:1,他引:0
研究了Ce~(3+)与Cu~(2+)协同强化芬顿体系在不同初始条件下对水中苯酚的氧化效能与机制.结果表明,在p H适用范围的宽度和H_2O_2浓度变化方面,Ce~(3+)/Cu~(2+)/Fe~(2+)/H_2O_2体系比传统的芬顿体系更具有优势,该体系在p H=5.0、H_2O_2浓度为2.0mmol·L-1的条件下,仍可以对苯酚保持相对较高的氧化效能;Cu~(2+)可能会借助反应过程中的中间产物(醌类物质)生成Cu+,Cu+催化H_2O_2分解生成·OH,Ce~(3+)可能促进体系内醌类物质的形成,加快Fe~(3+)与Fe~(2+)的循环效能,在一定程度上提高了芬顿体系中H_2O_2分解生成·OH的速率,说明Cu~(2+)与Ce~(3+)对芬顿体系的强化作用具有协同性;自由基终止剂依然可以抑制Ce~(3+)、Cu~(2+)强化的芬顿体系对苯酚的降解,由此说明体系中起到氧化作用的活性物种仍然是羟基自由基(·OH). 相似文献
10.