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| 净化化学抛光排气中的氮氧化物 | |
| 作者单位： | 北京市半导体器件三厂，北京市劳动保护科学研究所科研小分队 |
| 摘 要： | 化学抛光作业及强腐蚀中,产生大量的氮氧化物有害气体,排入大气中,在阳光紫外线的作用下,与碳氢化合物形成毒性更大的光化学毒雾,对人体危害较大。北京市半导体器件三厂排气中的氮氧化物浓度,每立方米高达2,500毫克,大大超过了国家工业三废排放标准,直接危害职工身体健康,污染周围环境,工人和附近居民迫切要求解决这个问题。 前年十月,北京市劳动保护科学研究所科研小分队,坚持走与工农相结合的道路,送技术上门,同厂里的工人、干部、技术人员组成三结合氮氧化物治理小组,根据毛主席关于“调查就是解决问题”的教导,在有实践经验的老工人带领… |
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