| 半导体生产排放的废气和废水中砷、磷、硫的分析方法研究 |
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| 引用本文： | 闻瑞梅,邓守权,张亚峰,范伟.半导体生产排放的废气和废水中砷、磷、硫的分析方法研究[J].重庆环境科学,2003,25(12):1-3. |
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| 作者姓名： | 闻瑞梅 邓守权 张亚峰 范伟 |
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| 作者单位： | 同济大学 上海200092
(闻瑞梅，邓守权，张亚峰)，同济大学 上海200092(范伟) |
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| 摘 要： | 研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原-气相色谱分析方法1-2]，并自行设计了高温还原系统(还原炉、六通阀等)，测定半导体生产排放废气和废水中的砷、磷、硫及其化合物，样品不需预处理，使气相色谱仪能直接测定固、液、气相样品中砷、磷、硫及其化合物的含量。砷、磷、硫的检测限分别为0．01mg／L、0．003mg／L、0．02mg／L；相对标准偏差分别为6．2％、8．6％和0．3％，与经典方法进行对比，结果基本一致。从分析方法的误差统计角度，也说明该方法准确、可靠。
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| 关 键 词： | 高温氢还原-气相色谱 砷 磷 硫 分析方法 |
| 文章编号： | 1001-2141(2003)12-0001-03 |
| 修稿时间： | 2003年5月28日 |
Analytical Method of As,P and S in the Waste Gases and Water Emitted from Semiconductor Process |
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| Wen Ruimei,Deng Shouquan,Zhang Yafeng,Fan Wei.Analytical Method of As,P and S in the Waste Gases and Water Emitted from Semiconductor Process[J].Chongqing Environmental Science,2003,25(12):1-3. |
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| Authors: | Wen Ruimei Deng Shouquan Zhang Yafeng Fan Wei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | high-temperature hydrogen reduction gas chromatography As P S analytical method |
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