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| 去垢剂影响PSⅡ核心复合物稳定性的双重效应 | |
| 摘 要： | 光系统(PS)Ⅱ核心复合物分离时需要使用去垢剂.研究不同光照条件和去垢剂处理对PSⅡ核心复合物荧光发射光谱的影响.结果显示:避光放置时去垢剂存在利于PSⅡ核心复合物荧光光谱峰值相对稳定;光照处理引起PSⅡ核心复合物荧光光谱峰值下降、峰位蓝移,去垢剂十二烷基麦芽糖苷(DM)存在时荧光光谱变化小于无去垢剂时,而中性去垢剂TritonX-100和阴离子型去垢剂SDS存在时变化更为明显.说明光照处理时DM使PSⅡ核心复合物稳定性增加,而TritonX-100和SDS降低了PSⅡ核心复合物的稳定性.避光时去垢剂的增溶作用利于核心复合物的稳定,光照时去垢剂的增溶作用影响色素蛋白,导致叶绿素与蛋白结合状态发生变化,或从蛋白上脱落下来,最终影响到光能的传递.去垢剂的保护或破坏效应与光照强度、去垢剂的种类相关.图7参22 |
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