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| 二氧化硅抛光 | |
| 作者单位： | 北京市半导体器件三厂 |
| 摘 要： | 抛光是集成电路和器件生产的基本工艺。目前大多采用铬离子抛光。 铬离子抛光液是由二氧化二铬、重铬酸铵和水配成的。内含有三价铬及六价铬。六价铬及其铬盐类等都能溶于水,毒性较大。在生产过程中,工人长期接触铬盐的粉尘或蒸气,对身体是有损害的。如果对含铬的废液不经净化就排入地下,还会造成环境污染。为了彻底消除铬对人体的危害和环境的污染,我们采用二氧化硅溶液代替铬离子抛光。 二氧化硅抛光工艺过程是:用二氧化硅细粉做抛光微粒,同时加入氢氧化钠进行腐蚀。硅片表面的硅通过二氧化硅胶粒对硅片产生的机械磨擦和氢氧化钠的腐蚀,而… |
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