| 非晶态TiO2-W薄膜的光催化性能研究 |
| |
| 引用本文： | 黄佳木,赵国栋,蔡小平,董晓霞. 非晶态TiO2-W薄膜的光催化性能研究[J]. 环境科学学报, 2006, 26(4): 620-625 |
| |
| 作者姓名： | 黄佳木 赵国栋 蔡小平 董晓霞 |
| |
| 作者单位： | 重庆大学材料学院,重庆,400045 |
| |
| 基金项目： | 重庆大学校科研和教改项目 |
| |
| 摘 要： | 采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了W掺杂的非晶态TiO2薄膜,用XRD、XPS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜进行了微观分析.结果表明,TiO2-W薄膜为非晶态结构.Ti以 4价存在;W以0价和 6价形式存在,并且6价和0价W的原子浓度比为6.4:1;薄膜中Ti和W的原子浓度比为2.6:1.对5 mg·L-1的亚甲基蓝溶液光催化脱色试验表明,随着膜厚的增加,光催化降解率递增,当膜厚达到141 nm时,所制备的TiO2-W薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2 h达到90%;当膜厚大于141 nm时,光催化降解率不再增加.
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 TiO2-W薄膜 光催化 薄膜厚度 |
| 文章编号： | 0253-2468(2006)04-0620-06 |
| 收稿时间： | 2005-09-12 |
| 修稿时间： | 2006-02-23 |
Photocatalytic degradation properties of amorphous TiO2-W thin film |
| |
| HUANG Jiamu,ZHAO Guodong,Cai Xiaoping and DONG Xiaoxia. Photocatalytic degradation properties of amorphous TiO2-W thin film[J]. Acta Scientiae Circumstantiae, 2006, 26(4): 620-625 |
| |
| Authors: | HUANG Jiamu ZHAO Guodong Cai Xiaoping DONG Xiaoxia |
| |
| Affiliation: | College of Materials Science and Engineering, Chongqing University, Chongqing 400045,College of Materials Science and Engineering, Chongqing University, Chongqing 400045,College of Materials Science and Engineering, Chongqing University, Chongqing 400045 and College of Materials Science and Engineering, Chongqing University, Chongqing 400045 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | magnetron sputtering TiO2-W thin films photocatalysis film thickness |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《环境科学学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《环境科学学报》下载全文 |
|
