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X射线静电探伤摄影机
作者姓名:崔新国
作者单位:北京市科技研究院
摘    要:一种新的压力容器无损探伤技 术──X射线工业探伤硒板静电摄影 机,已由北京市劳动保护科学研究所 和辽宁省劳动保护科学研究所共同研 制成动,并于今年5月通过了技术鉴 定。 这种静电摄影与银盐摄影不同, 摄影过程中没有任何化学反应。它将 物质的光电导特性和静电现象巧妙地 结合起来,用一块涂有半导体材料硒 的金属板作感光材料。然后,对涂有 硒膜的金属板──硒板在暗处进行表 面充电,使硒膜表面带上一层均匀的 电荷 具有一定的电位。将充电后的 硒板放入暗盒内进行X射线曝光。 X射线投射到硒膜上,入射光量子能被硒膜吸收。硒的膜导电…

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