首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

UV协同ClO2去除三氯生及其降解产物的研究
引用本文:李玉瑛,何文龙,李青松,金伟伟,陈国元,李国新.UV协同ClO2去除三氯生及其降解产物的研究[J].环境科学,2015,36(2):516-522.
作者姓名:李玉瑛  何文龙  李青松  金伟伟  陈国元  李国新
作者单位:1. 五邑大学化学与环境工程学院,江门 529000; 厦门理工学院水资源环境研究所,厦门 361024
2. 厦门理工学院水资源环境研究所,厦门,361024
3. 厦门理工学院水资源环境研究所,厦门 361024; 浙江工业大学建筑工程学院,杭州 310014
基金项目:国家自然科学基金项目(51378446, 51208468, 51309197); 福建省自然科学基金项目(2013J01212); 厦门市科技局项目(3502Z20131157, 3502Z20130039); 福建省高等学校新世纪优秀人才支持计划项目(JA14227)
摘    要:采用UV/Cl O2工艺对三氯生(TCS)的去除进行了研究,考察了初始p H、Cl O2投加量、TCS初始浓度、腐殖酸(HA)在UV/Cl O2联用工艺中对TCS降解的影响.研究表明,UV/Cl O2工艺可以有效去除TCS且具有协同作用,光强为6.5μW·cm-2、Cl O2投加量为0.5 mg·L-1和TCS浓度为300μg·L-1时,单独UV和Cl O2在1 min内对TCS的去除分别为5.23%和84.93%,UV/Cl O2联用工艺TCS在1 min内去除可达到99.13%.实验范围内(p H 6~9)随着p H的增大TCS去除率从99.4%升到99.63%;增大Cl O2投加量可以提高TCS的去除,Cl O2投加量从0.5~1.5 mg·L-1时TCS去除率由98.1%提高到99.89%;TCS初始浓度与去除率呈负相关,初始浓度从100~500μg·L-1时TCS去除率由99.98%下降到94.39%;低浓度的腐殖酸有利于TCS的去除,高浓度的腐殖酸则相反.GC/MS对TCS的UV、Cl O2和UV/Cl O2的降解产物分析表明,TCS的主要降解产物包括2,4-二氯苯酚(2,4-DCP)、2,7-二氯代二苯并-对-二英(2,7-DCDD)等.

关 键 词:UV/Cl  O2  三氯生  去除  GC/MS  降解产物
收稿时间:2014/7/16 0:00:00
修稿时间:2014/10/11 0:00:00

Removal of Triclosan with the Method of UV/ClO2 and Its Degradation Products
LI Yu-ying,HE Wen-long,LI Qing-song,JIN Wei-wei,CHEN Guo-yuan and LI Guo-xin.Removal of Triclosan with the Method of UV/ClO2 and Its Degradation Products[J].Chinese Journal of Environmental Science,2015,36(2):516-522.
Authors:LI Yu-ying  HE Wen-long  LI Qing-song  JIN Wei-wei  CHEN Guo-yuan and LI Guo-xin
Institution:College of Chemistry and Environmental Engineering, Wuyi University, Jiangmen 529000, China;Institute of Water Resources and Environment, Xiamen University of Technology, Xiamen 361024, China;College of Chemistry and Environmental Engineering, Wuyi University, Jiangmen 529000, China;Institute of Water Resources and Environment, Xiamen University of Technology, Xiamen 361024, China;Institute of Water Resources and Environment, Xiamen University of Technology, Xiamen 361024, China;Institute of Water Resources and Environment, Xiamen University of Technology, Xiamen 361024, China;College of Civil Engineering and Architecture, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China;Institute of Water Resources and Environment, Xiamen University of Technology, Xiamen 361024, China;Institute of Water Resources and Environment, Xiamen University of Technology, Xiamen 361024, China
Abstract:
Keywords:UV/ClO2  TCS  removal  GC/MS  degradation product
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《环境科学》浏览原始摘要信息
点击此处可从《环境科学》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号