四-(N-甲基-喹啉-6-)卟啉-Cu荧光熄灭体系测定痕量铜 |
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引用本文: | 喻德忠,谢荣庆,汪红,陈静.四-(N-甲基-喹啉-6-)卟啉-Cu荧光熄灭体系测定痕量铜[J].环境科学与技术,2001,24(5):28-29. |
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作者姓名: | 喻德忠 谢荣庆 汪红 陈静 |
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作者单位: | 1. 武汉化工学院 2. 武昌区环保局 |
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摘 要: | 利用 TMQ6 P-Cu荧光熄灭体系测定痕量铜 ,控制 p H =10 .3,选用λex/λem=40 0 / 6 0 0 nm时 ,|Δ F|最大 ,加入咪唑可加速反应进行。实验选用咪唑的浓度为 0 .0 0 8% ,TMQ6 P的浓度为 0 .2× 10 - 6 mol/ L。加入适量无水乙醇和十二烷基硫酸钠 ( SDS)可起到增敏和稳定作用。方法的检测限为 0 .33μg/ L
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关 键 词: | 四-(N-甲基-喹啉-6-)卟啉 荧光熄灭体系 铜 |
文章编号: | 1003-6504(2001)05-0028-02 |
修稿时间: | 2001年4月23日 |
Trace copper determined by tetra-(N-methyl-quinoline-6-) porphyrin-Cu fluorescence quenching sys tem |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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