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| 半导体厂含氟废水的深度处理 | |
| 引用本文： | 吴奇藩,孔庆安.半导体厂含氟废水的深度处理[J].环境工程,1994,12(6):9-12. |
| 作者姓名： | 吴奇藩 孔庆安 |
| 作者单位： | 华南理工大学应用化学系 |
| 摘 要： | 将高浓度含氟废水处理到１０ｍｇ／ＬＬ较容易，但进一步处理到３ｍｇ／Ｌ以下就比较困难。本文报道了将半导体厂含氟废水用药剂混凝法处理到３ｍｇ·Ｌ－１以下的方法。一系列实验结果表明，ｐＨ是影响除氟的最主要的因素。 |
| 关 键 词： | 除氟，除氟机理 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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