| 半导体集成电路器件生产废水处理工艺研究与应用 |
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| 引用本文： | 刘新超,高连敬,孙勇.半导体集成电路器件生产废水处理工艺研究与应用[J].能源环境保护,2005,19(4):39-42. |
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| 作者姓名： | 刘新超 高连敬 孙勇 |
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| 作者单位： | 同济大学环境科学与工程学院,上海,200092;同济大学建筑设计研究院,上海,200092;上海市政工程设计研究院,上海,200092 |
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| 摘 要： | 针对半导体集成电路器件生产产生的电镀废水、酸碱废水，对流量控制、pH、药剂投加量、反应搅拌强度进行研究，并提出合理的处理工艺，确保废水处理达标排放。
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| 关 键 词： | 半导体集成电路 电镀废水 酸碱废水 pH控制 |
| 文章编号： | 1006-8759(2005)04-0039-03 |
| 修稿时间： | 2005年4月8日 |
Technique on Treating Production Wastewater of Semiconductor Integrated Circuit Device |
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| LIU Xin-chao.Technique on Treating Production Wastewater of Semiconductor Integrated Circuit Device[J].Energy Environmental Protection,2005,19(4):39-42. |
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| Authors: | LIU Xin-chao |
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| Abstract: | |
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