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| 钛基表面电沉积钌的工艺研究 | |
| 引用本文： | 杨昊,方达经,张业明,郑鹏华.钛基表面电沉积钌的工艺研究[J].装备环境工程,2008,5(4). |
| 作者姓名： | 杨昊 方达经 张业明 郑鹏华 |
| 作者单位： | 1. 武汉材料保护研究所,武汉,430030 2. 武汉大学资源与环境科学学院,武汉,430079 3. 武汉大学资源与环境科学学院,武汉,430079;黄石理工学院环境科学与工程学院,湖北,黄石,435003 |
| 摘 要： | 说明了一种能在钛基上直接电镀金属钌的新工艺.该工艺在三氯化钌体系中进行,通过在电镀液中加入氨基磺酸、氯化铵和一些添加剂,提高了钌镀工艺的电流效率,且镀层光亮平整.试验还通过电化学测试、扫描电镜(SEM)和XRD等方法研究了电流密度、温度、pH值、主盐和添加剂浓度等参数对镀层性能的影响.结果表明:电镀钌工艺最佳电流密度范围是0.5～0.8 A/dm2,添加剂浓度的最佳范围是20～30g/L,微观电镜图也显示了钌镀层较为致密.最后,该镀钌工艺实现了在主盐浓度不高的情况下仍然镀出了致密的钌层. |
| 关 键 词： | 电沉积钌 钛基板 电流效率 |
Study of the Technology of Ruthenium Electrodeposition on Titanium |
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| YANG Hao,FANG Da-jing,ZHANG Ye-ming,ZHENG Peng-hua.Study of the Technology of Ruthenium Electrodeposition on Titanium[J].Equipment Environmental Engineering,2008,5(4). | |
| Authors: | YANG Hao FANG Da-jing ZHANG Ye-ming ZHENG Peng-hua |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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