环境中有机污染物的半导体光催化降解研究进展

应用半导体二氧化钛光催化剂促进氧化降解环境中常见有机污染物是一种有效的清洁处理技术,对光催化活性的半导体的必要性质,影响光催化效率的内在因素以及反应器,反应条件等方面的因素进行了讨论。     

我国半导体工业的产品代谢研究

利用产品代谢分析方法首次对我国半导体工业的整体硅元素和能源利用率进行了定量研究.根据我国半导体工业的产品代谢模型计算得出2002年我国半导体工业的硅元素利用率为2.6%,每生产1 kg硅总能耗为5 704kW·h,而1998年全球半导体工业硅元素平均利用率为9.6%,生产1kg硅总能耗为2 130 kW·h.进一步在产品链和关键环节分析基础上,确定了我国在硅元素利用率和能源利用率上与世界平均水平差距最大的环节.通过成因分析,提出了改善措施和途径.      

Abatement of waste gases and water during the processes of semiconductor fabrication

The purpose of this article is to examine the methods and equipment for abating waste gases and water produced during the manufacture of semiconductor materials and devices. Three separating methods and equipment are used to control three different groups of electronic wastes. The first group includes arsine and phosphine emitted during the processes of semiconductor materials manufacture. The abatement procedure for this group of pollutants consists of adding iodates, cupric and manganese salts to a multiple shower tower ( MST ) structure. The second group includes pollutants containing arsenic, phosphorus, HF, HCI, NO2, and SO3 emitted during the manufacture of semiconductor materials and devices. The abatement procedure involves mixing oxidants and bases in an oval column with a separator in the middle. The third group consists of the ions of As, P and heavy metals contained in the waste water. The abatement procedure includes adding CaCO3 and ferric salts in a flocculation-sedimentation compact device equipment. Test results showed that all waste gases and water after the abatement orocedures oresented in this article passed the discharge standards set by the State Environmental Protection Administration of China.     

环境光化学反应装置（EPRE）的研究进展

本文从环境光化学学科的演进过程，概括性地论述了环境光化学反应装置消除环境水、气和植物中有毒有害物质的反应机理，建立起环境光化学反应装置的分类概念，描述了目前环境光化学反应装置的研究现状和工业化应用尚存在的的问题，展望了该领域光明的发展前景。     

半导体氧水化物超细粉末对Cr（Ⅵ）的光催化还原作用研究

对不同反应条件下ＺｎＯ／ＴｉＯ２超细粉末艰水溶液中六价铬的还原作用影响进行了研究与对比，结果表明，半导体氧化物ＺｎＯ／ＴｉＯ２对水溶液中六价铬有明显的光催化还原作用，ＺｎＯ比ＴｉＯ２的效果更显著，经９０ｍｉｎ处理后，Ｃｒ（ＶＩ）含量从初始的１００ｍｇ／Ｌ降为０．４７ｍｇ／Ｌ以下；可降解有机物的存在能促进反应的进行，提高六价铬的转化率，随着ｐＨ值的升高，光催化效果减弱，本文还对反应机制和反应速度与反     

半导体多相光催化技术研究进展

多相光催化可利用太阳能有效地降解多种对环境有害的污染物。近年来半导体光催化氧化已成为光化学领域和环保领域中的研究热点之一。本文综述了半导体多相光催化原理及提高光催化的途径，提出了光催化技术存在的问题及发展方向。     

臭氧发生系统中半导体制冷干燥装置的研制

本文介绍了未经过干燥处理的原料气进入电晕放电臭氧发生系统后的危害机理 ,根据半导体的制冷干燥机理 ,开发研制了实验室用半导体制冷干燥装置 ,实验证明该装置的研制是成功的。     

废水中染料的TiO_2光催化氧化降解机理研究现状

系统论述了废水中TiO2光催化氧化降解染料的机理、动力学机制、染料的反应活性、研究中间降解产物的方法和结果等的研究现状,指出了目前研究中最大难点是分析手段的不足,对此提出了自己的看法,这为今后实际废水处理工艺过程中起到指导控制作用。     

水溶液中三氯甲烷的半导体光催化降解的研究

本文以TiO_2为催化剂,采用300W高压汞灯对水溶液中三氯甲烷进行了光催化降解。实验表明,经80分钟光照后,水中的三氯甲烷浓度可以从50ppm降至8ppm。其降解产物为HCl和CO_2。     

国家半导体行业VOC排放标准制订研究

随着近年来我国半导体产业的持续繁荣发展,中国已成为全球半导体制造增长最为迅速的市场。为有效控制监管半导体生产过程中大量使用的各种有机溶剂所产生的废气中可挥发性有机物(VOC)的排放,加强行业污染控制,规范行业环境保护管理工作,对制订半导体行业VOC排放标准进行了研究。概述了半导体行业VOC排放的特点。分析了该行业对VOC排放的治理技术。阐述了美国和中国台湾地区有关半导体行业VOC废气的排放标准。从国内半导体企业VOC治理现状、现有监测技术、VOC排放管理方式等方面探讨了我国半导体行业VOC废气排放标准的制定思路。