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电镀前处理的金属清洗和半导体材料的浸蚀,大量排放NO_x,严重污染环境.我们采用国产GH型活性碳用于吸附NO_x,通过实验和工业试用,设备投资少、净化效率高(达95%以上)、能源消耗低(运行中除排风机  相似文献   
2.
由于HF/HNO_3稀释液(用水或醋酸),是硅浸蚀液中唯一能获得抛光表面的浸蚀液.但硝酸的存在,使得浸蚀过程伴有大量氮氧化物,恶化操作,污染环境.因此,寻求污染少的新浸蚀溶液和浸蚀工艺,具有实际意义.  相似文献   
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