ZIF-8@ZnO复合光催化剂的抗光腐蚀机理研究

ZnO在光催化过程中容易产生光腐蚀,造成Zn2+离子析出并损伤ZnO的晶体结构使其降低光催化活性。该文将MOFs材料ZIF-8复合在ZnO表面,形成ZnO与ZIF-8的强相互作用,从而有效地抑制了ZnO的光腐蚀。X射线衍射光谱、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱分析表征,表明ZnO与ZIF-8成功复合。以罗丹明B为目标污染化合物,在波长λ=385 nm的光源照射下,探讨其光催化降解特性,表明当催化剂ZIF-8@ZnO配体添加量为2 mmol时,光催化体系能够有效降解污染物,并且ZIF-8@ZnO抑制光腐蚀的效果最好,5次循环后光催化效果基本不变。光电化学表征说明ZIF-8@ZnO复合材料优异的抗光腐蚀性能是由于ZnO与ZIF-8之间形成了异质结,光生载流子得到有效的分离,增强了抗光腐蚀能力。