首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   2篇
  免费   0篇
  国内免费   2篇
安全科学   1篇
综合类   1篇
污染及防治   2篇
  2017年   1篇
  2014年   3篇
排序方式: 共有4条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1
1.
李氏禾湿地系统净化Cr(Ⅵ)污染水体的机理研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用湿生铬超富集植物李氏禾构建了三段式波形潜流式人工湿地,并以相同设计的无植物湿地系统作为对照,比较研究了李氏禾湿地系统对Cr(Ⅵ)的净化效果.同时,综合运用电子顺磁共振(EPR)、X光电子能谱(XPS)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)等手段,并结合有机质含量、pH、Eh和Cr质量平衡分析,探讨了李氏禾湿地系统对Cr(Ⅵ)的去除机理.结果显示,李氏禾湿地系统对Cr(Ⅵ)的去除率显著高于对照湿地,且李氏禾湿地基质中的有机质含量是对照湿地的3倍.这表明李氏禾增加了湿地基质中的有机质含量,从而提高了湿地系统对Cr(Ⅵ)的净化能力.李氏禾组织中的Cr主要以Cr(Ⅲ)形式存在,其中,茎部和叶部未检测到Cr(Ⅵ),而仅有1.95%的Cr以Cr(Ⅵ)形式存在于根部中.EPR分析结果显示,李氏禾叶部中的Cr(Ⅲ)以有机酸结合态的形式存在,根部中的Cr(Ⅲ)以氢氧化物的形式存在,这表明李氏禾能有效地将Cr(Ⅵ)还原成Cr(Ⅲ).基质表面吸附的Cr大部分为Cr(Ⅲ),而Cr(Ⅵ)仅占4.99%.XPS分析进一步证明,基质表面同时吸附了Cr(Ⅲ)和Cr(Ⅵ),但主要以Cr(Ⅲ)为主,且Cr(Ⅲ)可能以氢氧化物的形式存在.由此判断,进入湿地的Cr(Ⅵ)在基质中被还原成Cr(Ⅲ).FTIR分析结果显示,基质表面的羟基、氨基、羧基、CO、C—O、C—H等基团与Cr的吸附有关,这表明湿地基质中的有机质作为电子供体参与了Cr(Ⅵ)的还原.李氏禾湿地系统能将水体中可溶性的Cr(Ⅵ)有效地还原成难溶的Cr(Ⅲ)化合物,并将其转化成湿地生态系统物质循环的惰性部分.  相似文献   
2.
李氏禾人工湿地净化Cr(Ⅵ)污染水体的性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用湿生铬超富集植物李氏禾构建的三段式波形潜流式人工湿地,研究了湿地系统对Cr(Ⅵ)污染水体的净化效果。结果显示,李氏禾湿地系统对Cr(Ⅵ)污染水体的净化效果明显好于无植物的对照。当进水Cr(Ⅵ)浓度为2.50 mg/L时,李氏禾湿地系统出水Cr(Ⅵ)浓度显著低于对照,说明李氏禾在湿地系统净化Cr(Ⅵ)污染水体中发挥了重要的作用。当进水Cr(Ⅵ)浓度超标150倍(7.50 mg/L)时,李氏禾湿地系统出水Cr(Ⅵ)浓度仍可达到国家地表水环境质量标准(0.05 mg/L),表明李氏禾湿地系统具有很强的Cr(Ⅵ)污染净化能力。沿程Cr(Ⅵ)浓度的变化显示,湿地系统对Cr(Ⅵ)的去除效率随水流方向逐渐降低,Cr(Ⅵ)主要在湿地系统的前两个阶段被去除。  相似文献   
3.
为了筛选对Cr(Ⅵ)净化效果好的湿地基质,通过小试实验,研究了以水稻土、红土、沙子、泥炭、硅藻土、粉煤灰为基质的李氏禾(Leersia hexandra Swartz)湿地系统对Cr(Ⅵ)的净化效果,并比较了6种基质的湿地系统中pH、Eh、有机质含量、微生物数量和李氏禾生物量的差异,结果表明,以泥炭和水稻土为基质的湿地系统的Cr(Ⅵ)净化效果显著好于其他基质的湿地系统,并且这2种基质湿地系统中李氏禾的生物量显著高于其他4种基质的湿地系统(p0.05)。当Cr(Ⅵ)进水质量浓度为5 mg/L时,泥炭、水稻土人工湿地对Cr(Ⅵ)的平均去除率可达到99.94%和99.54%。6种基质的pH有较大差异,但总体而言,p H较高的硅藻土和粉煤灰不利于Cr(Ⅵ)的还原去除。  相似文献   
4.
利用湿生铬超富集植物李氏禾构建的三段式波形潜流式人工湿地,研究了湿地系统对Cr(Ⅵ)污染水体的净化效果。结果显示,李氏禾湿地系统对Cr(Ⅵ)污染水体的净化效果明显好于无植物的对照。当进水Cr(Ⅵ)浓度为2.50mg/L时,李氏禾湿地系统出水Cr(Ⅵ)浓度显著低于对照,说明李氏禾在湿地系统净化Cr(Ⅵ)污染水体中发挥了重要的作用。当进水Cr(Ⅵ)浓度超标150倍(7.50mg/L)时,李氏禾湿地系统出水Cr(Ⅵ)浓度仍可达到国家地表水环境质量标准(0.05mg/L),表明李氏禾湿地系统具有很强的Cr(Ⅵ)污染净化能力。沿程Cr(Ⅵ)浓度的变化显示,湿地系统对Cr(Ⅵ)的去除效率随水流方向逐渐降低,Cr(Ⅵ)主要在湿地系统的前两个阶段被去除。  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号