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1.
半导体法检测低浓度的二氧化硫李锁宝(扬子石化公司环保处南京210048)硫化学发光检测仪(SCD)的发明是硫分析的一个重大进展,其原理是:在氢火焰中硫化合物可分解为SO,燃烧产物立即转变成低压单体,SO与过量O3反应产生化学发光现象变成激发态的SO2...  相似文献   
2.
产品代谢及其在循环经济中的应用   总被引:1,自引:2,他引:1  
对指导循环经济实践的核心理论和分析方法——工业代谢进行分类,提出了产品代谢的概念,并利用产品代谢分析方法首次对我国半导体工业整体的硅元素利用效率和能源利用效率进行了定量研究,提出了改善我国半导体工业产品代谢的措施和途径。  相似文献   
3.
光活性二氧化钛膜的制备与应用   总被引:76,自引:0,他引:76  
自80年代末以来,光活性膜由于诱人的应用前景而成为环境领域的研究热点。本文主要介绍溶胶-凝胶法等制备二氧化钛膜的方法及其并根据基于二氧化钛膜的光催化技术的特点简单讨论了光活性二氧化钛膜的可能应用领域。  相似文献   
4.
半导体光催化剂及其改性技术进展   总被引:175,自引:1,他引:175  
本文介绍了用于水处理的半导体光催化剂的作用原理,综述了近年来有关贵金属淀积,金属离子掺杂,表面光敏化,产地导体复合和为上土交改性技术的研究,并对其原理进行解释和说明。  相似文献   
5.
半导体行业挥发性有机物(VOCs)排放特征研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
采用工艺调查与现场监测相结合的方法,研究了半导体行业废气排放中VOCs的种类和排放水平.结果表明,共检测出26种有机物,其中以异丙醇排放量最大.采用排放系数法估算了该行业VOCs2004年的排放量和2010年的预期排放量,并提出了加强和完善排放标准控制以及清洁生产等控制措施的建议.  相似文献   
6.
半导体制造业的环境污染与清洁生产   总被引:3,自引:0,他引:3  
余刚  罗玉 《环境保护》2000,(8):36-37
在分析半导体制造过程中不同工艺产生的环境污染问题的基础上,讨论了半导体制造业开展清洁生产的原则和途径,介绍了一些成功的清洁生产方案。  相似文献   
7.
以活性污泥脱氢酶的活性作为毒性指标,研究了半导体材料GaAs、Ga3+、Ge4+对活性污泥活性的抑制影响,并用Hg2+作为参比材料;同时对抑制动力学也作了初步研究。实验表明,GaAs、Ga3+、Ge4+及Hg2+的10%抑制浓度分别为45.00,371.63,0.13ppm/gMLSS,GaAs、Ga3+、Ge4+和Hg2  相似文献   
8.
孙钰 《世界环境》1998,(3):34-38
摩托罗拉公司半导体产品部认识到,尽早考虑环境影响可显著降低成本和缩短生产周期。其工艺研究开发实验室已建立环境组,解决工艺开发中的环境问题,并已开发了一个环境设计培训课程,帮助半导体工程师们了解环境设计原理。  相似文献   
9.
本文综述了半导体多相催化在污水处理方面的应用,介绍代表性的光催化剂,提出半导体多相催化在污水处理方面的应用前景。  相似文献   
10.
驱动电源对浊度仪半导体激光器的影响   总被引:2,自引:0,他引:2  
分析了驱动电源及瞬态电压、电流对半导体激光器的影响,提出了防止半导体激光器损坏的措施和建议。  相似文献   
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